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1. (WO2001022162) COPOLYMERES SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS, COMPOSITIONS DE PHOTORESERVES A BASE DE CES COPOLYMERES ET SYSTEMES BICOUCHES POUR ULTRAVIOLETS PROFONDS CORRESPONDANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/022162    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/022141
Date de publication : 29.03.2001 Date de dépôt international : 11.08.2000
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/30 (2006.01), C08F 120/10 (2006.01), C08F 130/08 (2006.01)
Déposants : ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. [US/US]; 501 Merrit 7, P.O. Box 4500, Norwalk, CT 06856-4500 (US)
Inventeurs : FOSTER, Patrick; (US).
BIAFORE, John, Joseph; (US).
SLATER, Sidney, George; (US).
STEINHAUSLER, Thomas; (US)
Mandataire : GREELEY, Paul, D.; Ohlandt, Greeley, Ruggiero & Perle, L.L.P., 9th Floor, One Landmark Square, Stamford, CT 06901-2682 (US)
Données relatives à la priorité :
09/401,111 22.09.1999 US
09/576,146 22.05.2000 US
Titre (EN) RADIATION SENSITIVE COPOLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS THEREOF AND DEEP UV BILAYER SYSTEMS THEREOF
(FR) COPOLYMERES SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS, COMPOSITIONS DE PHOTORESERVES A BASE DE CES COPOLYMERES ET SYSTEMES BICOUCHES POUR ULTRAVIOLETS PROFONDS CORRESPONDANTS
Abrégé : front page image
(EN)Radiation sensitive resins for use as a top layer resist in a bilayer system for use in deep UV photolithography comprises derivatized copolymers having structural units (1), (2), (3) and (4) wherein n is 1 to 5, R is an alkyl group, R?1¿ a methyl or trimethylsiloxy, R?3¿ is hydrogen or methyl and R?2¿ and R?4¿ are each tert-butyl groups.
(FR)Cette invention se rapporte à des résines sensibles aux rayonnements conçues pour être utilisées comme réserve de couche supérieure dans un système bicouche servant dans la photolithographie en ultraviolet profond, ces résines contenant des copolymères dérivés ayant les unités structurelles suivante: (1), (2), (3) et (4), où n est compris entre 1 et 5, R représente un groupe alkyle, R?1¿ représente un méthyle ou triméthyle siloxy, R?3¿ représente hydrogène ou méthyle, et R?2¿ et R?4¿ représentent chacun des groupes tert-butyle.
États désignés : JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)