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1. (WO2001021852) PROCEDE DE PRODUCTION DE FILMS D'ALLIAGE NiTiHf PAR PULVERISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/021852    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/026184
Date de publication : 29.03.2001 Date de dépôt international : 22.09.2000
CIB :
C23C 14/16 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : DELPHI TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; Legal Staff - Mail Code: 480-414-420, P.O. Box 5052, Troy, MI 48007 (US)
Inventeurs : RASMUSSEN, Gregory, Keller; (US).
CHANG, Fenglian; (US).
ZHANG, Jinping; (US).
GOLD, Terry, Jack; (US)
Mandataire : VANOPHEM, John; Delphi Technologies, Inc., P.O. Box 5052, Mail Code: 480-414-420, Troy, MI 48007-5052 (US)
Données relatives à la priorité :
09/400,589 22.09.1999 US
Titre (EN) A METHOD FOR PRODUCING NiTiHf ALLOY FILMS BY SPUTTERING
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE FILMS D'ALLIAGE NiTiHf PAR PULVERISATION
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing ternary shape-memory alloy films employing sputtering process techniques using krypton as a process gas.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de films d'alliage à mémoire de forme ternaire dans lequel on utilise des techniques de traitement par pulvérisation au moyen de krypton en tant que gaz de traitement.
États désignés : JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)