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1. (WO2001021715) PROCEDE DE PRODUCTION DE CHARGES CHIMIQUEMENT MODIFIEES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/021715    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/022712
Date de publication : 29.03.2001 Date de dépôt international : 17.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.03.2001    
CIB :
B60C 1/00 (2006.01), C08K 9/06 (2006.01), C09C 1/30 (2006.01), C09C 3/00 (2006.01)
Déposants : PPG INDUSTRIES OHIO, INC. [US/US]; 3800 West 143rd Street, Cleveland, OH 44111 (US).
DOW CORNING CORP. [US/US]; 2200 West Salzburg Road, Auburn, MI 48611 (US)
Inventeurs : OKEL, Timothy, A.; (US).
HAHN, James, R.; (US)
Mandataire : MALLAK, Frank, P.; PPG Industries, Inc., One PPG Place, Pittsburgh, PA 15272 (US)
Données relatives à la priorité :
60/149,758 19.08.1999 US
60/172,308 17.12.1999 US
60/203,427 10.05.2000 US
09/636,312 11.08.2000 US
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING CHEMICALLY MODIFIED FILLERS
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE CHARGES CHIMIQUEMENT MODIFIEES
Abrégé : front page image
(EN)Described is an improved process for producing chemically modified fillers by using a certain combination of functionalizing and hydrophobizing agents in an aqueous suspension of inorganic oxide having a pH of 2.5 or less and increasing the pH of the suspension after chemically modifying the filler.
(FR)L'invention concerne un procédé perfectionné de production de charges chimiquement modifiées à l'aide d'une combinaison spécifique d'agents de fonctionalisation et d'hydrophobisation dans une suspension aqueuse d'oxyde inorganique possédant un pH de 2,5 ou moins et augmentant le pH de la suspension suite à la modification chimique de la charge.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)