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1. (WO2001021526) PROCEDE DE MICROMANIPULATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/021526    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/005759
Date de publication : 29.03.2001 Date de dépôt international : 25.08.2000
CIB :
H01J 37/20 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY CORPORATION [JP/JP]; 4-1-8, Hon-cho, Kawaguchi-shi, Saitama-ken 332-0012 (JP) (Tous Sauf US).
MIYAZAKI, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SATO, Tomomasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIYAZAKI, Hideki; (JP).
SATO, Tomomasa; (JP)
Mandataire : NAGASE, Shigeki; Oguro-bild, 2-4-2, Sarugaku-cho, Chiyodaku, Tokyo 101-0064 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/269778 24.09.1999 JP
Titre (EN) MICROMANIPULATION METHOD
(FR) PROCEDE DE MICROMANIPULATION
Abrégé : front page image
(EN)A micromanipulation method for handling a micro object as the operator likes with high reproducibility when observing the magnified image of the object by irradiating the object with an electron beam and forming the image from secondary electrons, reflected electrons, or a transmitted electron signal. In the micromanipulation method for handling a micro object irradiated with an electron beam using a micromanipulation device, the micro object is captured or released with the micromanipulation device by adjusting the acceleration voltage of the electron beam, the potential of the micromanipulation device, and the potential of a working base.
(FR)L'invention se rapporte à un procédé de micromanipulation permettant de manipuler un micro objet comme l'opérateur le souhaite, avec une reproductibilité élevée lors de l'observation de l'image agrandie de l'objet par irradiation de ce dernier avec un faisceau d'électrons et formation de l'image à partir des électrons secondaires, des électrons réfléchis ou d'un signal électronique émis. Selon ce procédé de micromanipulation permettant de manipuler un micro objet irradié par un faisceau d'électrons, au moyen d'un dispositif de micromanipulation, il est possible de saisir et relâcher le micro objet au moyen du dispositif de micromanipulation en réglant la tension d'accélération du faisceau d'électrons, le potentiel du dispositif de micromanipulation et le potentiel d'une base de travail.
États désignés : CA, CN, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)