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1. (WO2001019913) COMPOSITION DE FLUORORESINE SUSCEPTIBLE DE FORMER UN FILM A BASSE TEMPERATURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/019913    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/005781
Date de publication : 22.03.2001 Date de dépôt international : 28.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.02.2001    
CIB :
C09D 127/16 (2006.01)
Déposants : DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-nishi 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-8323 (JP) (Tous Sauf US).
CHIDA, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HONDA, Kayoko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YONEI, Yasushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IMOTO, Katsuhiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAGATO, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MORI, Haruhiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : CHIDA, Akira; (JP).
HONDA, Kayoko; (JP).
YONEI, Yasushi; (JP).
IMOTO, Katsuhiko; (JP).
NAGATO, Masaru; (JP).
MORI, Haruhiko; (JP)
Mandataire : ASAHINA, Sohta; NS Building, 2-22, Tanimachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 540-0012 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/259540 13.09.1999 JP
11/359550 17.12.1999 JP
Titre (EN) FLUORORESIN COMPOSITION CAPABLE OF FORMING FILM AT LOW TEMPERATURE
(FR) COMPOSITION DE FLUORORESINE SUSCEPTIBLE DE FORMER UN FILM A BASSE TEMPERATURE
Abrégé : front page image
(EN)A fluororesin composition capable of forming a film at low temperatures which comprises: a fluororesin which is soluble or dispersible in organic solvents and has at least one of the properties of having a fluorine content of 5 wt.% or higher, having a refractive index lower than 1.40, having a crystalline melting point of 100 to 180°C, being an amorphous polymer with a glass transition point of 70 to 250°C, having a cyclic structure, and comprising 10 to 50 mol% tetrafluoroethylene units, 0 to 50 mol% hexafluoropropylene units, and 90 to 10 mol% vinylidene fluoride units; an organometallic compound having a hydrolyzable group; and an organic solvent. The fluororesin composition is capable of forming a film at low temperatures (270°C or lower, preferably 180°C or lower) and gives a film whose surface can be easily hydrophilized.
(FR)L'invention se rapporte à une composition de fluororésine susceptible de former un film à basse température. Ladite composition comprend une fluororésine qui est soluble ou dispersible dans des solvants organiques et possède au moins l'une des caractéristiques suivantes: contenir une quantité de fluor supérieure ou égale à 5 % en poids, posséder un indice de réfraction inférieur à 1,4, posséder un point de fusion cristallin compris entre 100 et 180 °C, être un polymère amorphe doté d'un point de transition vitreuse compris entre 70 et 250 °C, posséder une structure cyclique et comporter 10 à 50 % en moles d'unités de tétrafluoroéthylène, 0 à 50 % en moles d'unités d'hexafluoropropylène et 90 à 10 % en moles d'unités de fluorure de vinylidène. Ladite composition comporte également un composé organométallique ayant un groupe hydrolysable et un solvant organique. Cette composition de fluororésine est susceptible de former un film à basses températures (inférieures ou égales à 270 °C, de préférence inférieures ou égales à 180°C), le film ainsi obtenu possédant une surface facilement hydrolysable.
États désignés : US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)