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1. (WO2001018923) LASER A DECHARGE GAZEUSE DE PUISSANCE ELEVEE AVEC UNITE DE DIMINUTION DE LARGEUR DE RAIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/018923    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/024306
Date de publication : 15.03.2001 Date de dépôt international : 31.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.03.2001    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01S 3/034 (2006.01), H01S 3/036 (2006.01), H01S 3/04 (2006.01), H01S 3/08 (2006.01), H01S 3/13 (2006.01), H01S 3/134 (2006.01), H01S 3/139 (2006.01), H01S 3/225 (2006.01)
Déposants : CYMER, INC. [US/US]; 16750 Via Del Campo Court, San Diego, CA 92127-1712 (US) (Tous Sauf US).
CYBULSKI, Raymond, F. [US/US]; (US) (US Seulement).
ERSHOV, Alexander, I. [US/US]; (US) (US Seulement).
ONKELS, Eckehard, D. [DE/US]; (US) (US Seulement).
DAS, Palash, P. [US/US]; (US) (US Seulement).
RICHARDSON, Danilo, D. [US/US]; (US) (US Seulement).
BUCK, Jesse, D. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CYBULSKI, Raymond, F.; (US).
ERSHOV, Alexander, I.; (US).
ONKELS, Eckehard, D.; (US).
DAS, Palash, P.; (US).
RICHARDSON, Danilo, D.; (US).
BUCK, Jesse, D.; (US)
Mandataire : ROSS, John, R.; Cymer, Inc., Legal Department-MS/3-2A, 16750 Via Del Campo Court, San Diego, CA 92127-1712 (US)
Données relatives à la priorité :
09/390,579 03.09.1999 US
09/451,407 30.11.1999 US
Titre (EN) HIGH POWER GAS DISCHARGE LASER WITH LINE NARROWING UNIT
(FR) LASER A DECHARGE GAZEUSE DE PUISSANCE ELEVEE AVEC UNITE DE DIMINUTION DE LARGEUR DE RAIE
Abrégé : front page image
(EN)A grating based line narrowing device for line narrowing lasers producing high energy laser beams. Techniques are provided for minimizing adverse effects of hot gas layers present on the face of the grating. In preferred embodiments the effect of the hot gas layer is reduced with the use of helium as a purge gas. One of the preferred embodiments includes a barrier plate (60) and a barrier cover (62) to force the purge flow across the face of the grating. In further embodiments the purge gas pressure is reduced to reduce the optical effects of the hot gas layer.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de diminution de largeur de raie sur réseau destiné à des lasers à raies étroites produisant des rayons lasers d'énergie élevée. Des techniques permettent de minimiser des effets adverses dus aux couches de gaz chauds présentes sur la face du réseau. Dans des réalisations préférées, l'effet de la couche de gaz chaud est réduit au moyen d'hélium utilisé comme gaz de purge. Une des réalisations préférées met en oeuvre une plaque barrière (60) et une couverture barrière (62) afin de forcer le flux de purge à balayer la face du réseau. Dans d'autres réalisations, on réduit le gaz de purge afin de réduire les effets optiques de la couche de gaz chaud.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)