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1. (WO2001018621) SYSTEME ET METHODOLOGIE POUR UNE COHERENCE DES TOLERANCES DANS L'ASSEMBLAGE DE CONSTITUANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/018621    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/024990
Date de publication : 15.03.2001 Date de dépôt international : 11.09.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.03.2001    
CIB :
G05B 19/4097 (2006.01), G05B 19/418 (2006.01)
Déposants : VARATECH ENGINEERING CONSULTANTS, INC. [US/US]; Suite 400, 305 Hoover Boulevard, Holland, MI 49423 (US).
KAMATALA, Mahesh [IN/US]; (US).
ALAMGIR, Alvi [BD/US]; (US).
GARDNER, Robert [US/US]; (US).
GEELHOOD, Kenneth [US/US]; (US).
GUHA, Debajit [IN/US]; (US).
LU, Hwei-Min [--/US]; (US).
PATELL, Frae [IN/US]; (US).
SALISBURY, Erik [US/US]; (US).
STEENWYK, Matthew [US/US]; (US).
TYAGI, Kavi [IN/US]; (US).
VERMA, Raj [IN/US]; (US).
WANG, Yuyan [CN/US]; (US).
WU, Zhiming [CN/US]; (US)
Inventeurs : KAMATALA, Mahesh; (US).
ALAMGIR, Alvi; (US).
GARDNER, Robert; (US).
GEELHOOD, Kenneth; (US).
GUHA, Debajit; (US).
LU, Hwei-Min; (US).
PATELL, Frae; (US).
SALISBURY, Erik; (US).
STEENWYK, Matthew; (US).
TYAGI, Kavi; (US).
VERMA, Raj; (US).
WANG, Yuyan; (US).
WU, Zhiming; (US)
Mandataire : MOORE, Stanley, R.; Jenkens & Gilchrist, P.C., Suite 3200, 1445 Ross Avenue, Dallas, TX 75202-2799 (US)
Données relatives à la priorité :
60/153,446 10.09.1999 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHODOLOGY FOR TOLERANCE CONSISTENCY IN COMPONENT ASSEMBLY
(FR) SYSTEME ET METHODOLOGIE POUR UNE COHERENCE DES TOLERANCES DANS L'ASSEMBLAGE DE CONSTITUANTS
Abrégé : front page image
(EN)A system and methodology for optimizing tolerance restrictions between design studies, facilitating rapid component assembly design and production while maintaining multi-tolerance restrictions.
(FR)On décrit un système et une méthodologie qui permettent d'optimiser la sujétion aux tolérances issues de plusieurs études de conception, de faciliter la conception d'un assemblage rapide et la production tout en conservant les limites imposées par des tolérances multiples.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)