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1. (WO2001018606) CHEMIN DE DONNEES POUR GENERATEUR DE MOTIFS HAUTEMENT PERFORMANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/018606    N° de la demande internationale :    PCT/SE2000/001749
Date de publication : 15.03.2001 Date de dépôt international : 08.09.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.03.2001    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : MICRONIC LASER SYSTEMS AB [SE/SE]; P.O. Box 3141, S-183 93 Täby (SE) (Tous Sauf US).
SANDSTRÖM, Torbjörn [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
THURÉN, Anders [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : SANDSTRÖM, Torbjörn; (SE).
THURÉN, Anders; (SE)
Mandataire : AWAPATENT AB; P.O. Box 11394, S-404 28 Göteborg (SE)
Données relatives à la priorité :
9903243-5 09.09.1999 SE
Titre (EN) DATA PATH FOR HIGH PERFORMANCE PATTERN GENERATOR
(FR) CHEMIN DE DONNEES POUR GENERATEUR DE MOTIFS HAUTEMENT PERFORMANT
Abrégé : front page image
(EN)A high-speed datapath for a high-performance pattern generator such as an analog SLM for generating the image is disclosed. The data path has provisions for completely independent parallel data flows giving true scalability to arbitrarily high throughput. In a preferred embodiment areas on the SLM are assigned to specific rasterizing and fracturing processors. There is an overlap between fields for blending of the edges in the pattern and for computation of interaction between features in the pattern. The datapath has data integrity checks and a recovery mode when an error condition is raised, allowing it to recover from most errors without creating new errors.
(FR)L'invention concerne un chemin de données à grande vitesse pour un générateur de motif hautement performant, tel qu'un SLM analogique afin de générer une image. Le chemin de données possède des plate-formes pour des flots de données parallèles entièrement indépendants qui apportent une réelle extensibilité à un débit arbitrairement élevé. Dans un mode de réalisation préféré de l'invention, des zones du SLM sont associées à des processeurs de fracturation et de rastérisation spécifiques. Un chevauchement existe entre les champs pour mélanger les bords dans le motif et pour calculer l'interaction entre les caractéristiques au sein du motif. Le chemin de données possède également des vérificateurs d'intégrité des données ainsi qu'un mode de récupération lorsqu'une condition d'erreur est relevée, ce qui lui permet de corriger la plupart des erreurs, sans en créer de nouvelles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)