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1. (WO2001018280) PLAQUE A TROUS AMELIOREE ET SES PROCEDES DE FABRICATION ET D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/018280    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/024829
Date de publication : 15.03.2001 Date de dépôt international : 08.09.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    19.03.2001    
CIB :
C25D 1/10 (2006.01)
Déposants : AEROGEN, INC. [US/US]; 1310 Orleans Drive, Sunnyvale, CA 94089 (US)
Inventeurs : BORLAND, Scott; (US).
BAKER, Gary; (US)
Mandataire : GIBBY, Darin, J.; Townsend and Townsend and Crew LLP, Eighth Floor, Two Embarcadero Center, San Francisco, CA 94111 (US)
Données relatives à la priorité :
09/392,180 09.09.1999 US
Titre (EN) IMPROVED APERTURE PLATE AND METHODS FOR ITS CONSTRUCTION AND USE
(FR) PLAQUE A TROUS AMELIOREE ET SES PROCEDES DE FABRICATION ET D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)A method for performing an aperture plate (10) comprises providing a mandrel (26) that is constructed of a mandrel body (28) having a conductive surface (30) and a plurality of non-conductive islands (32) disposed on the conductive surface. The mandrel is placed within a solution containing a material that is to be deposited onto the mandrel. Electrical current is applied to the mandrel to form an aperture plate on the mandrel, with the apertures having an exit angle that is in the range from about 30° to about 60°.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'une plaque (10) à trous et consiste à utiliser un mandrin (26) conçu dans un corps (28) à surface (30) conductrice, et une pluralité d'îlots non conducteurs disposés sur la surface conductrice. Le mandrin est placé dans une solution contenant un matériau devant être déposé sur le mandrin. Un courant électrique est appliqué sur le mandrin pour former une plaque à trous, les trous ayant un angle de sortie compris entre environ 30 et environ 60 degrés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)