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1. (WO2001018167) COMPOSITION DE BLANCHIMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/018167    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/005903
Date de publication : 15.03.2001 Date de dépôt international : 31.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.02.2001    
CIB :
C11D 3/02 (2006.01), C11D 3/395 (2006.01), C11D 3/43 (2006.01)
Déposants : SETTSU OIL MILL., LTD. [JP/JP]; 5-77, Noda 6-chome Fukushima-ku, Osaka-shi Osaka 553-0005 (JP) (Tous Sauf US).
KIMURA, Akifumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURAKAMI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KITAZAWA, Kozo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KIMURA, Akifumi; (JP).
MURAKAMI, Hiroshi; (JP).
KITAZAWA, Kozo; (JP)
Mandataire : HOSODA, Yoshinori; Hosoda International Patent Office Otemae M2 Bldg. 8-1, Tanimachi 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 540-0012 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/250766 03.09.1999 JP
Titre (EN) BLEACHER COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE BLANCHIMENT
Abrégé : front page image
(EN)A bleacher composition comprising a hypochlorite, an inorganic alkali, and an organic thickener and further containing (1) at least one member selected from the group consisting of polar organic solvents, organic chelating agents, and quaternary ammonium salts having one or two C¿8-18? alkyl groups in the molecule and/or (2) organic or inorganic particles having an average particle diameter of 1 $g(m)m to 3 mm; and a method of fungus removal which comprises applying the bleacher composition to a hard material. The bleacher composition is highly effective in removing fungi growing on a hard material and has satisfactory bleaching activity. It can prevent fungal growth over long, so that the frequency of bleaching can be reduced. When the composition contains the organic or inorganic particles, the parts coated with the bleacher composition are obvious. Thus, the parts which should be bleached can be easily prevented from being incompletely coated, and the composition can be applied easier and more perfectly.
(FR)L'invention concerne une composition de blanchiment qui comprend un hypochlorite, un alcali inorganique, et un épaississant organique, et contient en outre 1) au moins un élément sélectionné dans le groupe constitué par des solvants organiques polaires, des agents de chélation organiques, des sels d'ammonium quaternaire comportant un ou deux groupes alkyyles C¿8-18? dans la molécule; et/ou 2) des particules organiques ou inorganiques présentant un diamètre moyen des particules de 1 $g(m)m à 3 m. L'invention concerne également une méthode d'élimination des moisissures, qui consiste à appliquer la composition de blanchiment sur une matière dure. Cette composition de blanchiment élimine avec une très grande efficacité les moisissures qui prolifèrent sur une matière dure, et présente une action de blanchiment satisfaisante. Elle peut empêcher la prolifération des moisissures à long terme, ce qui permet de réduire la fréquence de blanchiment. Lorsque la composition contient les particules organiques ou inorganiques, les parties enduites de la composition de blanchiment se mettent en évidence. On peut ainsi empêcher une enduction incomplète des parties devant faire l'objet d'un blanchiment, ce qui permet une application plus facile et harmonieuse de la composition.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)