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1. (WO2001017919) SILICE PURE FONDUE, FOUR ET PROCEDE CORRESPONDANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/017919    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/024776
Date de publication : 15.03.2001 Date de dépôt international : 08.09.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.02.2001    
CIB :
C03B 19/14 (2006.01), C04B 35/10 (2006.01), F27B 9/26 (2006.01), F27B 17/00 (2006.01), F27D 1/00 (2006.01), F27D 3/00 (2006.01)
Déposants : CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza, Corning, NY 14831 (US) (Tous Sauf US).
KOTACSKA, Lawrence, H. [US/US]; (US) (US Seulement).
PAVLIK, Robert, S., Jr. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KOTACSKA, Lawrence, H.; (US).
PAVLIK, Robert, S., Jr.; (US)
Mandataire : MURPHY, Edward, F.; Corning Incorporated, Sp TI 3 1, Corning, NY 14831 (US)
Données relatives à la priorité :
60/153,422 10.09.1999 US
Titre (EN) PURE FUSED SILICA, FURNACE AND METHOD
(FR) SILICE PURE FONDUE, FOUR ET PROCEDE CORRESPONDANTS
Abrégé : front page image
(EN)An article of relatively pure silica, and a furnace (50) and method of producing the article. The article is produced by collecting molten silica particles (30) in a refractory furnace (50) in which at least a portion of the refractory (32) has been exposed to a halogen-containing gas to react with contaminating metal ions in the refractory (32).
(FR)La présente invention concerne un article composé de silice relativement pure, un four et un procédé de production de cet article. En outre, on produit cet article en récupérant les particules de silice fondue (30) dans un four réfractaire (50) dans lequel au moins une partie du réfractaire (32) a été exposée à un gaz contenant de l'halogène pour réagir avec les ions métalliques contaminants dans le réfractaire (32).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)