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1. (WO2001017902) DISPERSION DE SiO¿2? A HAUT COEFFICIENT DE CHARGE, PROCEDES PERMETTANT DE LA PREPARER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/017902    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/008752
Date de publication : 15.03.2001 Date de dépôt international : 07.09.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.02.2001    
CIB :
C01B 33/14 (2006.01), C03B 19/06 (2006.01), C04B 35/14 (2006.01), C04B 35/626 (2006.01)
Déposants : WACKER-CHEMIE GMBH [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE) (Tous Sauf US).
SCHWERTFEGER, Fritz [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEIS, Johann [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
RITTER, Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MOLTER, Achim [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHWEREN, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FREY, Volker [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHERM, Hans-Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHWERTFEGER, Fritz; (DE).
WEIS, Johann; (DE).
RITTER, Peter; (DE).
MOLTER, Achim; (DE).
SCHWEREN, Wolfgang; (DE).
FREY, Volker; (DE).
SCHERM, Hans-Peter; (DE)
Mandataire : POTTEN, Holger; Wacker-Chemie GmbH, Zentralbereich PML, Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE)
Données relatives à la priorité :
199 43 103.5 09.09.1999 DE
Titre (DE) HOCHGEFÜLLTE SiO¿2?-DISPERSION, VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG UND VERWENDUNG
(EN) HIGHLY FILLED SiO¿2? DISPERSION, METHODS FOR THE PRODUCTION THEREOF AND ITS USE
(FR) DISPERSION DE SiO¿2? A HAUT COEFFICIENT DE CHARGE, PROCEDES PERMETTANT DE LA PREPARER
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft hochgefüllte SiO¿2?-Dispersionen, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie Verfahren um aus der Dispersion poröse, amorphe SiO¿2?-Formkörper mit extrem hohen Füllgraden herzustellen. Bei der erfindungsgemässen Dispersion handelt es sich um eine homogene, sehr gut giessfähige Dispersion von amorphen, SiO¿2?-Partikeln in einem Dispersionsmittel, die dadurch gekennzeichnet ist, dass sie einen Füllgrad von mindestens 80 Gew.-% an amorphen SiO¿2?-Partikeln aufweist und die amorphen SiO¿2?-Partikel eine bimodale Korngrössenverteilung haben.
(EN)The invention relates to highly filled SiO¿2? dispersions, to methods for the production thereof and to methods used for producing porous, amorphous SiO¿2? shaped bodies having extremely high filling degrees. The inventive dispersion concerns a homogeneous and easily pourable dispersion of amorphous SiO¿2? particles in a dispersing agent. Said dispersion is characterized in that it has a filling degree of at least 80 wt. % of amorphous SiO¿2? particles, and the amorphous SiO¿2? particles have a bimodal grain size distribution.
(FR)L'invention concerne des dispersions de SiO¿2? à haut coefficient de charge, des procédés permettant de les préparer et des procédés permettant de produire des corps moulés en SiO¿2? poreux amorphes à coefficients de charge extrêmement élevés. Dans le cas de la dispersion selon l'invention, il s'agit d'une dispersion homogène très coulante de particules de SiO¿2? amorphes dans un agent dispersant, qui se caractérise en ce qu'elle présente un coefficient de charge d'au moins 80 % en poids de particules de SiO¿2? et en ce que les particules de SiO¿2? amorphes ont une répartition granulométrique bimodale.
États désignés : CA, CN, JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)