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1. (WO2001016991) DISPOSITIF A FAISCEAUX D'ELECTRONS AYANT UNE FAIBLE TRAJECTOIRE DE FAISCEAUX DE PERTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/016991    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/020905
Date de publication : 08.03.2001 Date de dépôt international : 01.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.01.2001    
CIB :
H01J 33/04 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Inventeurs : WEISS, Douglas, E.; (US).
DIZIO, James, P.; (US).
KALWEIT, Harvey, W.; (US).
SCHLEMMER, Roy, G.; (US).
SVENTEK, Bruce, A.; (US)
Mandataire : GOVER, Melanie, G.; Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US).
HILLERINGMANN, Jochem; Banhofsvorplatz 1, (Deichmannhaus), D-50667 Cologne (DE)
Données relatives à la priorité :
09/386,735 31.08.1999 US
Titre (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS HAVING A LOW LOSS BEAM PATH
(FR) DISPOSITIF A FAISCEAUX D'ELECTRONS AYANT UNE FAIBLE TRAJECTOIRE DE FAISCEAUX DE PERTE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus for irradiating an article, particularly a multi-layer article, with electron beam radiation is provided. The apparatus contains a window having a short unit path length and allows for controlled irradiation of an article such that upper portions of the article receive significantly higher electron beam dosages than lower portions of the article. Such differential dosage allows for modification of an article comprising a coating composition that can be modified by electron beam irradiation on a substrate that is vulnerable to degradation from electron beam radiation. A method of irradiating an article with electron beams, and products manufactured using the apparatus and method of the invention, are also disclosed.
(FR)La présente invention concerne un dispositif servant à irradier un objet, en particulier un objet multicouche, avec un rayonnement à faisceaux d'électrons. Le dispositif comprend une fente ayant une courte longueur de trajectoire unitaire et permet l'irradiation contrôlée d'un objet de sorte que les parties supérieures de l'objet reçoivent significativement des doses plus importantes de faisceaux d'électrons que les parties inférieures de l'objet. Un dosage différentiel de ce type permet la modification d'un objet comprenant une composition de revêtement qui peut être modifiée par exposition à des faisceaux d'électrons d'un substrat sensible à la dégradation par rayonnement à faisceaux d'électrons. Cette invention concerne également un procédé d'irradiation d'un objet avec des faisceaux d'électrons, et des produits réalisés grâce à l'utilisation du dispositif et du procédé de la présente invention.
États désignés : AU, CA, JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)