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1. (WO2001015820) PROCEDE DE REVETEMENT ADHESIF ET ARTICLE REVETU D'UN ADHESIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/015820    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/019651
Date de publication : 08.03.2001 Date de dépôt international : 19.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.12.2000    
CIB :
B05C 1/00 (2006.01), B05C 1/08 (2006.01), B05D 1/28 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 5/10 (2006.01), C09J 7/00 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Inventeurs : DIZIO, James, P.; (US).
WEISS, Douglas, E.; (US).
SVENTEK, Bruce, A.; (US).
CARTER, Charles, G.; (US)
Mandataire : LITTLE, Douglas, B.; Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US).
MEYERS, Hans-Wilhelm; P.O. Box 10 22 41, D-50462 Koln (DE)
Données relatives à la priorité :
09/386,180 31.08.1999 US
Titre (EN) ADHESIVE COATING METHOD AND ADHESIVE COATED ARTICLE
(FR) PROCEDE DE REVETEMENT ADHESIF ET ARTICLE REVETU D'UN ADHESIF
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for making a substrate coated with an adhesive, comprising applying an electron beam modifiable adhesive layer onto a repeatably reusable transfer surface, irradiating the adhesive layer with an electron beam to chemically modify the adhesive layer, and transferring the irradiated adhesive layer to a substrate. Also disclosed is an adhesive coated web, comprising a substrate having at least one component susceptible to electron beam radiation degradation having no electron beam radiation modification and an adhesive layer having an electron beam modified composition and having no chemical, thermal, or ultraviolet crosslinking agent.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat revêtu d'un adhésif, qui consiste à appliquer une couche adhésive que l'on peut modifier avec un faisceau d'électrons sur une surface de transfert réutilisable de façon répétée, à irradier la couche adhésive avec un faisceau d'électrons de façon à la modifier chimiquement, et à transférer cette couche adhésive irradiée sur un substrat. Cette invention concerne aussi une bande revêtue d'adhésif, qui comprend un substrat possédant au moins un composant susceptible d'être dégradé par les radiations du faisceau d'électrons et qui ne présente pas de modification due aux radiations du faisceau d'électrons, et une couche adhésive dont la composition a été modifiée par un faisceau d'électrons et qui est dépourvue d'agent de réticulation, thermique ou chimique ou encore d'agent de réticulation induite par ultraviolets.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)