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1. (WO2001014911) SURVEILLANCE EN TEMPS REEL DE LA DOSE DE RAYONNEMENT D'UN FAISCEAU D'ELECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/014911    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/022600
Date de publication : 01.03.2001 Date de dépôt international : 18.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.03.2001    
CIB :
G01V 5/00 (2006.01)
Déposants : STERIS INC. [US/US]; 43425 Business Park Drive, Temecula, CA 92590 (US)
Inventeurs : KORENEV, Sergey, Alexandrovich; (US).
MASEFIELD, John; (US).
KRIEBEL, Jerry; (US).
JOHNSON, Stephen, Scott; (US)
Mandataire : KOCOVSKY, Thomas, E., Jr.; Fay, Sharpe, Fagan, Minnich & McKee, LLP, 7th Floor, 1100 Superior Avenue, Cleveland, OH 44114-2518 (US)
Données relatives à la priorité :
09/382,051 24.08.1999 US
Titre (EN) REAL TIME MONITORING OF ELECTRON BEAM RADIATION DOSE
(FR) SURVEILLANCE EN TEMPS REEL DE LA DOSE DE RAYONNEMENT D'UN FAISCEAU D'ELECTRONS
Abrégé : front page image
(EN)An accelerator (10) generates an electron beam that is swept (16) up and down to form an electron beam (22). A conveyor (32) moves items (30) through the electron beam for irradiation treatment. A first array of inductive electron beam strength detectors (40a) is disposed between the origin of the electron beam and a first item to be irradiated to measure the strength of the electron beam entering the item at a plurality of altitudes. A second array (42) of inductive electron beam strength detectors is disposed on the opposite side of the item to detect the strength of the electron beam exiting the item at the plurality of altitudes. In the illustrated embodiment, another item is positioned to be irradiated by the radiation that is passed through the first item. The second array thus detects the electron beam strength entering the second item and an analogous array (40c) measures the electron beam strength exiting the second beam. A processor (54) determines the absorbed dose of radiation absorbed by each of the first and second items. The dose information is archived (56). The dose information is compared by a parameter adjustment processor (58) with target doses and deviations are used to control one or more of MeV or beam current of the electron beam, the sweep rate, and the conveying speed of the item. Each of the inductive detectors (42) includes a ferrite member, such as a ferrite ring (62). A plurality of coiled loops (64) are mounted around a periphery of the ferrite ring.
(FR)Un accélérateur (10) génère un faisceau d'électrons qui est balayé (16) de haut en bas pour former un faisceau d'électrons (22). Un dispositif d'acheminement (32) déplace des objets (30) pour qu'ils traversent le faisceau d'électrons afin de subir un traitement d'irradiation. Un premier réseau de détecteurs inductifs (40a) mesurant l'intensité du faisceau d'électrons est placé entre l'origine du faisceau d'électrons et un premier objet devant être irradié pour mesurer l'intensité du faisceau d'électrons qui entre dans l'objet au niveau de plusieurs hauteurs. Un deuxième réseau (42) de détecteurs inductifs mesurant l'intensité du faisceau est placé de l'autre côté de l'objet pour détecter l'intensité du faisceau d'électrons qui sort de l'objet au niveau des diverses hauteurs. Dans la forme de réalisation présentée, un autre objet est positionné pour être irradié par le rayonnement qui a déjà traversé le premier objet. Le deuxième réseau détecte ainsi l'intensité du faisceau d'électrons qui entre dans le deuxième objet et un réseau analogue (40c) mesure l'intensité du faisceau d'électrons à sa sortie du deuxième objet. Un processeur (54) détermine la dose de rayonnement qui est absorbée par chacun des premier et deuxième objets. Les informations relatives à la dose sont archivées (56). Ces informations relatives à la dose sont comparées par un processeur (58) d'ajustement des paramètres qui les compare à des doses cibles et des écarts sont utilisés pour contrôler le courant d'un ou de plusieurs mégaélectron volts ou le courant du faisceau, la vitesse du balayage et la vitesse de transport d'un élément en ferrite tel qu'un anneau (62) en ferrite. Plusieurs boucles spiralées (64) sont montées autour d'une partie périphérique de l'anneau en ferrite.
États désignés : JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)