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1. (WO2001014826) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DETERMINER UN ANGLE DE CINTRAGE SUR UNE PIECE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/014826    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/007758
Date de publication : 01.03.2001 Date de dépôt international : 10.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.01.2001    
CIB :
B21D 5/02 (2006.01), G01B 11/26 (2006.01)
Déposants : EHT WERKZEUGMASCHINEN GMBH [DE/DE]; Emmendinger Strasse 21, D-79331 Teningen (DE) (Tous Sauf US).
WEIGOLD, Simon [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FEHRENBACH, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : WEIGOLD, Simon; (DE).
FEHRENBACH, Thomas; (DE)
Mandataire : MAUCHER, BÖRJES & KOLLEGEN; Dreikönigstrasse 13, 79102 Freiburg (DE)
Données relatives à la priorité :
199 39 837.2 21.08.1999 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ERFASSEN EINES BIEGEWINKELS AN EINEM WERKSTÜCK
(EN) METHOD AND DEVICE FOR DETECTING A BENDING ANGLE ON A WORKPIECE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DETERMINER UN ANGLE DE CINTRAGE SUR UNE PIECE
Abrégé : front page image
(DE)Zum Erfassen oder Ermitteln der Lage- oder Winkeländerung oder eines Biegewinkels an einem Werkstück (2) und einem Werkstückschenkel (3) beim Biegen wird wenigstens ein von einer Meßstrahl- oder Lichtquelle (6) ausgehender Meß- oder Lichtstrahl, insbesondere in Form eines Lichtfächers (14), auf das Werkstück (2) gerichtet, damit dort ein entsprechendes Lichtmuster, insbesondere eine Licht-Linie (7) erzeugt wird. Diese kann mit Hilfe eines Empfängers, am besten mit einer Kamera (8) aufgenommen und detektiert werden, so daß eine Winkeländerung des Werkstückes (2) oder seines Werkstückschenkels (3) aufgrund einer Lageänderung des Lichtmusters berechnet werden kann. Dabei wird die Meßstrahl- oder Lichtquelle (6) so angeordnet, daß die Licht-Linie (7) oder mehrere derartige Licht-Linien (7), die aber auch Symmetrie- oder Durchmesserlinien von geometrischen Formen sein können, parallel oder im wesentlichen parallel zur Biegelinie (11) verlaufen, so daß eine Änderung der Lage des Biegeschenkels (3) zu einer Parallelverschiebung dieser projizierten Linie (7) führt.
(EN)The invention relates to a method and a device for detecting or determining a position or angle modification or a bending angle on a workpiece (2) and a workpiece section (3) during a bending process. To this end, at least one measurement or light beam, in particular, in the form of a light fan (14), originating from a light or measurement beam source (6) is directed onto the workpiece (2), in order to create a corresponding pattern of light, in particular, a line of light (7). The latter can be recorded and detected using a receiver, preferably a camera (8), in such a way that a modification to the angle of the workpiece (2) or its workpiece section (3) can be calculated, based on a position modification of the light pattern. The light or measurement beam source (6) is positioned in such a way, that the line of light (7) or several light lines (7) of this type, which can also be geometrical lines of symmetry or diameter lines, run parallel or substantially parallel to the bending line (11), so that a modification to the position of the bent workpiece section (3) leads to a parallel displacement of this projected line (7).
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif pour détecter ou déterminer une variation de position ou d'angle ou bien un angle de cintrage sur une pièce (2) et une partie de pièce (3) lors d'un cintrage. A cet effet, au moins un rayon lumineux ou un rayon de mesure, se présentant notamment sous la forme d'un éventail lumineux (14) et sortant d'une source de rayon de mesure ou d'une source lumineuse (6), est dirigé sur la pièce (2) afin de créer sur cette dernière un motif lumineux correspondant, notamment une ligne lumineuse (7). Cette dernière peut être acquise et détectée au moyen d'un récepteur, de préférence une caméra (8), de sorte qu'une variation angulaire de la pièce (2) ou d'une partie (3) de celle-ci puisse être calculée sur la base d'une variation de position du motif lumineux. La source de rayon de mesure ou de la source lumineuse (6) est placée de sorte que la ligne lumineuse (7) ou plusieurs lignes (7) de ce type, qui peuvent également être des bissectrices ou des diamètres de formes géométriques, s'étendent de manière pratiquement parallèle aux lignes de cintrage (11) de manière qu'une variation de la position de la partie cintrée (3) entraîne un déplacement parallèle de cette ligne projetée (7).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)