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1. (WO2001013054) DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE RAPIDE PAR PAROI CHAUDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/013054    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/022202
Date de publication : 22.02.2001 Date de dépôt international : 11.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.01.2001    
CIB :
C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), C30B 25/10 (2006.01), C30B 25/14 (2006.01), F27B 5/14 (2006.01), F27B 5/16 (2006.01), F27D 1/18 (2006.01), F27D 3/00 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : ASML US, INC. [US/US]; 440 Kings Village Road, Scotts Valley, CA 95066 (US)
Inventeurs : RATLIFF, Christopher, T.; (US).
KOWALSKI, Jeffrey, M.; (US).
QIU, Taiqing; (US)
Mandataire : TEST, Aldo, J.; Flehr Hohbach Test Albritton & Herbert LLP, Suite 3400, 4 Embarcadero Center, San Francisco, CA 94111-4187 (US)
Données relatives à la priorité :
09/373,894 12.08.1999 US
60/217,321 07.07.2000 US
Titre (EN) HOT WALL RAPID THERMAL PROCESSOR
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE RAPIDE PAR PAROI CHAUDE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus (10) for heat treatment of a wafer (28) is disclosed. The apparatus includes a heating chamber (18) having a heat source (20). A cooling chamber (32) is positioned adjacent to the heating chamber and includes a cooling source (40). A wafer holder (38) is configured to move between the cooling chamber and the heating chamber through a passageway (54) and one or more shutters (52) defines the size of the passageway. The one or more shutters are movable between an open position where the wafer holder can pass through the passageway and an obstructing position which defines a passageway which is smaller than the passageway defined when the shutter is in the open position.
(FR)L'invention concerne un appareil (10) destiné au traitement thermique d'une tranche (28). Ledit appareil comprend une chambre (18) de chauffage renfermant une source (20) de chaleur. Une chambre (32) de refroidissement, renfermant une source (40) de refroidissement, est disposée adjacente à la chambre de chauffage. Un porte-tranche (38) est configuré pour se déplacer entre la chambre de refroidissement et la chambre de chauffage via un passage (54), dont la taille est définie par un ou plusieurs volets obturateurs (52). Ces volets obturateurs peuvent passer d'une position ouverte où le porte-tranche peut passer dans le passage à une position d'obstruction définissant un passage plus petit que le passage défini lorsque le volet en est position ouverte, et vice-versa.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)