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1. (WO2001012690) COMPOSITION DE RÉSINE CONTENANT DES PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/012690    N° de la demande internationale :    PCT/NL2000/000537
Date de publication : 22.02.2001 Date de dépôt international : 27.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.03.2001    
CIB :
C08F 2/44 (2006.01), C08F 283/12 (2006.01), C08F 290/06 (2006.01), C08F 292/00 (2006.01), C08L 51/08 (2006.01)
Déposants : DSM N.V. [NL/NL]; Het Overloon 1, NL-6411 TE Heerlen (NL) (Tous Sauf US).
JSR CORPORATION [JP/JP]; JSR Building, 2-11-24, Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo 104-8410 (JP) (Tous Sauf US).
JAPAN FINE COATINGS CO. LTD. [JP/JP]; 2-11-24, Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo 104-8410 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAGUCHI, Yoshikazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YASHIRO, Takao [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIWAKI, Isao [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UKACHI, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAGUCHI, Yoshikazu; (JP).
YASHIRO, Takao; (JP).
NISHIWAKI, Isao; (JP).
UKACHI, Takashi; (JP)
Mandataire : DEN HARTOG, Jeroen, Hendrikus, Joseph; DSM Patents & Trademarks, P.O. Box 9, NL-6160 MA Geleen (NL)
Données relatives à la priorité :
11/2282296 12.08.1999 JP
Titre (EN) RESIN COMPOSITION COMPRISING PARTICLES
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE CONTENANT DES PARTICULES
Abrégé : front page image
(EN)A resin composition comprising: A) particles prepared by bonding at least one oxide of an element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony, and cerium, and an organic compound which includes a polymerizable unsaturated group, B) an oligomer-type radiation polymerization initiator having a site which generates photo-radicals by irradiation of radioactive rays, and C) a compound having at least two polymerizable unsaturated groups in the molecule.
(FR)L'invention concerne une composition de résine contenant: A) des particules obtenues par la liaison d'au moins un oxyde d'un élément sélectionné dans le groupe constitué par le silicium, l'aluminium, le zirconium, le titane, le zinc, le germanium, l'indium, l'étain, l'antimoine et le cérium, avec un composé organique incluant un groupe insaturé polymérisable; B) un initiateur de polymérisation par rayonnement du type oligomère possédant un site qui produit des photo-radicaux par irradiation de rayons radioactifs; et C) un composé renfermant au moins deux groupes insaturés polymérisables dans la molécule.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)