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1. (WO2001012566) PROCEDE DE PREPARATION DE SILICE VITREUSE SYNTHETIQUE ET APPAREIL DE TRAITEMENT THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/012566    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/005412
Date de publication : 22.02.2001 Date de dépôt international : 11.08.2000
CIB :
C03B 19/14 (2006.01), C03B 25/02 (2006.01), C03B 32/00 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 23/00 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
YAJIMA, Shouji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAIWA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIDA, Yasuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAJIMA, Shouji; (JP).
HIRAIWA, Hiroyuki; (JP).
ISHIDA, Yasuji; (JP)
Mandataire : HASEGAWA, Yoshiki; Soei Patent and Law Firm, Okura-honkan, 6-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 104-0061 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/228197 12.08.1999 JP
Titre (EN) METHOD FOR PREPARATION OF SYNTHETIC VITREOUS SILICA AND APPARATUS FOR HEAT TREATMENT
(FR) PROCEDE DE PREPARATION DE SILICE VITREUSE SYNTHETIQUE ET APPAREIL DE TRAITEMENT THERMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method for preparation of a synthetic vitreous silica which comprises a first step comprising ejecting a silicon compound together with a combustion gas containing oxygen and hydrogen from a burner, to hydrolyze the silicon compound in an oxyhydrogen flame and form vitreous silica particles, and depositing the silica particles onto a target being opposed to the burner, to thereby produce a transparent synthetic vitreous silica ingot, a second step of heating the silica ingot to a first holding temperature of 900 °C or higher and holding it at the temperature, and then cooling it to a temperature of 500 °C or less by a temperature-decreasing rate of 10 °C/hr or less, and a third step of heating the resultant glass ingot to a second holding temperature of from 500 °C to 1100 °C and holding it at the temperature, and then cooling it to a temperature 100 °C lower than the second holding temperature by a temperature-decreasing rate of 50 °C/hr or greater.
(FR)Cette invention se rapporte à un procédé servant à préparer une silice vitreuse synthétique et consistant, dans une première étape, à éjecter d'un brûleur un composé de silicium conjointement avec un gaz de combustion contenant de l'oxygène et de l'hydrogène, afin d'hydrolyser le composé de silicium dans une flamme d'oxyhydrogène et former des particules de silice vitreuse; et à déposer ces particules de silice sur une cible opposée au brûleur, en vue de produire un lingot de silice vitreuse synthétique transparent; dans une second étape, à chauffer le lingot de silice à une première température de maintien égale ou supérieure à 900 °C et à le maintenir à cette température et à le refroidir ensuite à une température égale ou inférieure à 500 °C avec une vitesse de diminution de la température égale ou inférieure à 10 °C par heure; et, dans une troisième étape, à chauffer le lingot de verre qui en résulte à une seconde température de maintien comprise entre 500 et 1100 °C et à le maintenir à cette température, puis à le refroidir à une température 100 °C inférieure à la seconde température de maintien avec une vitesse de diminution de la température égale ou supérieure à 50 °C par heure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)