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1. (WO2001011737) SOURCE LUMINEUSE A CHAMP ELECTRIQUE ELEVE ET HAUTE PRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/011737    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/021760
Date de publication : 15.02.2001 Date de dépôt international : 09.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.02.2001    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01J 3/02 (2006.01), H01J 61/16 (2006.01), H01J 61/64 (2006.01), H01J 63/02 (2006.01), H01J 63/08 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : RUTGERS, THE STATE UNIVERSITY [US/US]; Old Queens, Somerset Street, New Brunswick, NJ 08903 (US)
Inventeurs : SALVERMOSER, Manfred; (US).
MURNICK, Daniel, E.; (US)
Mandataire : MILLET, Marcus, J.; Lerner, David, Littenberg, Krumholz & Mentlik, LLP, 600 South Avenue West, Westfield, NJ 07090-1497 (US)
Données relatives à la priorité :
60/147,912 09.08.1999 US
60/157,813 04.10.1999 US
Titre (EN) HIGH ELECTRIC FIELD, HIGH PRESSURE LIGHT SOURCE
(FR) SOURCE LUMINEUSE A CHAMP ELECTRIQUE ELEVE ET HAUTE PRESSION
Abrégé : front page image
(EN)A method of generating light comprising the step of applying an electric field to an excimer-forming gas such as a gas mixture containing noble gases and hydrogen or halogen, and providing free electrons in the gas. The electric field is configured to accelerate electrons to at least the energy required to form excimers, but in at least one region of the electric field, the field does not substantially ionize the gas, so that the field does not induce arcing through the gas. For example, electrons can be injected from one or more field emission electrodes (18) such as one or more a metal needle tip conductors, whereas the electric field can be a field between the field emission electrodes and a counterelectrode (13).
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de produire de la lumière, qui consiste à appliquer un champ électrique à un gaz de formation d'excimères tel qu'un mélange gazeux contenant des gaz nobles et de l'hydrogène ou de l'halogène, et à distribuer des électrons libres dans le gaz. Le champ électrique est configuré pour accélérer les électrons au moins jusqu'à l'énergie nécessaire à la formation d'excimères, mais dans au moins une région du champ électrique, le champ n'ionise sensiblement pas le gaz de façon qu'il n'induit pas d'arc électrique dans le gaz. Par exemple, les électrons peuvent être injectés par une ou plusieurs électrodes à émission de champ (18) telles qu'un ou plusieurs conducteurs métalliques à pointe d'aiguille, tandis que le champ électrique peut être un champ formé entre les électrodes à émission de champ et une contre-électrode (13).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)