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1. (WO2001011661) COMPOSANTS ELECTRIQUES PASSIFS FORMES SUR DES SUBSTRATS ISOLANTS RECOUVERTS DE CARBONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/011661    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/021940
Date de publication : 15.02.2001 Date de dépôt international : 10.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    01.03.2001    
CIB :
H01C 1/084 (2006.01), H01C 7/04 (2006.01), H01C 17/065 (2006.01), H01L 23/373 (2006.01), H01L 27/01 (2006.01)
Déposants : EMC TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 1971 Old Cuthbert Road, Cherry Hill, NJ 08034 (US)
Inventeurs : SHAH, Rajendra; (US).
MAZZOCHETTE, Joseph, B.; (US).
HELFAND, Martin, A.; (US)
Mandataire : MORRIS, Frank, E.; Pennie & Edmonds LLP, 1155 Avenue of the Americas, New York, NY 10036 (US)
Données relatives à la priorité :
60/147,997 10.08.1999 US
Titre (EN) PASSIVE ELECTRICAL COMPONENTS FORMED ON CARBON COATED INSULATING SUBSTRATES
(FR) COMPOSANTS ELECTRIQUES PASSIFS FORMES SUR DES SUBSTRATS ISOLANTS RECOUVERTS DE CARBONE
Abrégé : front page image
(EN)A substrate having a diamond or diamond-like carbon coating (30) of at least one micron thickness on an underlayer of an insulating material such as AlN (20). Such a substrate is advantageously used as a mounting for passive electrical components (40) such as microwave and radio frequency (rf) resistors, capacitors, attenuators, terminators and loads.
(FR)L'invention concerne un substrat pourvu d'un revêtement de diamant ou de type diamant présentant une épaisseur d'au moins un micron et recouvrant une sous-couche d'un matériau isolant, tel que du nitrure d'aluminium (AlN). Ce substrat est avantageusement utilisé comme support destiné à des composants électriques passifs, tels que des résistances micro-ondes et radiofréquence (rf), des condensateurs, des atténuateurs, des terminateurs et des charges.
États désignés : CA, JP, SK.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)