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1. (WO2001011658) REACTEUR A PLASMA PERMETTANT DE TRAITER DES SUBSTRATS A GRANDE SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/011658    N° de la demande internationale :    PCT/CH2000/000419
Date de publication : 15.02.2001 Date de dépôt international : 08.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.02.2001    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : UNAXIS TRADING AG [CH/CH]; c/o Balzers AG, CH-9477 Trübbach (CH) (Tous Sauf US).
SCHMITT, Jacques [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : SCHMITT, Jacques; (FR)
Représentant
commun :
UNAXIS TRADING AG; c/o Balzers AG, CH-9477 Trübbach (CH)
Données relatives à la priorité :
1466/99 10.08.1999 CH
Titre (DE) PLASMAREAKTOR ZUR BEHANDLUNG VON GROSSFLÄCHIGEN SUBSTRATEN
(EN) PLASMA REACTOR FOR TREATING SUBSTRATES HAVING LARGE SURFACES
(FR) REACTEUR A PLASMA PERMETTANT DE TRAITER DES SUBSTRATS A GRANDE SURFACE
Abrégé : front page image
(DE)Ein Hochfrequenzplasmareaktor (1) für die Behandlung von wesentlich grossflächigen Substraten (15) wird offenbart, der zwischen den Elektroden (3, 5) des Plasmareaktors eine feste oder gasförmige dielektrische Schicht (11) mit nicht planarem Oberflächenprofil aufweist, das so ausgelegt wird, um Prozess-Inhomogenitäten im Reaktor auszugleichen oder vorgegebene Verteilungsprofile erzeugen zu können.
(EN)The invention relates to a high-frequency plasma reactor (1) which is provided for treating substrates (15) having substantially large surfaces and which comprises a solid or gaseous dielectric layer (11). Said dielectric layer is located between the electrodes (3, 5) and has a non-planar surface profile which is configured in order to compensate process non-homogeneities in the reactor or to be able to produce predetermined distribution profiles.
(FR)La présente invention concerne un réacteur à plasma à haute fréquence (1) permettant de traiter des substrats (15) qui présentent une surface sensiblement grande. Ce réacteur présente, entre les électrodes (3, 5) du réacteur à plasma, une couche diélectrique solide ou gazeuse (11) présentant un profil de surface non planaire. Ledit profil est posé de façon à pouvoir compenser les manques d'homogénéité de processus dans le réacteur ou à pouvoir engendrer un profil de répartition prédéfini.
États désignés : JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)