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1. (WO2001011108) APPAREIL ET PROCEDE DE DEPOT PAR VAPEUR PHYSIQUE A FAISCEAU ELECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/011108    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/021108
Date de publication : 15.02.2001 Date de dépôt international : 02.08.2000
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/30 (2006.01), C23C 14/52 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : GENERAL ELECTRIC COMPANY [US/US]; 1 River Road Schenectady, NY 12345 (US)
Inventeurs : BRUCE, Robert, William; (US).
MARICOCCHI, Antonio, Frank; (US).
EVANS, John, Douglas, Sr.; (US).
BETSCHER, Keith, Humphries; (US).
VIGUIE, Rudolfo; (US).
WORTMAN, David, John; (US).
RIGNEY, David, Vincent; (US).
LAGEMANN, Christopher, Lee; (US).
WILLEN, William, Seth; (US)
Mandataire : MITCHELL, James, W.; General Electric Company 3135 Easton Turnpike W3C Fairfield, CT 06431 (US)
Données relatives à la priorité :
60/147,236 04.08.1999 US
09/624,809 24.07.2000 US
Titre (EN) ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCEDE DE DEPOT PAR VAPEUR PHYSIQUE A FAISCEAU ELECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An electron beam physical vapor deposition (EBPVD) apparatus (10) and a method for using the apparatus (10) to produce a coating (e.g., a ceramic thermal barrier coating) on an article (20). The EBPVD apparatus (10) generally includes a coating chamber (12) that is operable at elevated temperatures and subatmospheric pressures. An electron beam gun (30) projects an electron beam (28) into the coating chamber (12) and onto a coating material (26) within the chamber (12), causing the coating material (26) to melt and evaporate. An article (20) is supported within the coating chamber (12) so that vapors of the coating material (26) deposit on the article (20). The operation of the EBPVD apparatus (10) is enhanced by the inclusion or adaptation of one or more mechanical and/or process modifications, including those necessary or beneficial when operating the apparatus (10) at coating pressures above 0.010 mbar.
(FR)La présente invention concerne un appareil (10) de dépôt par vapeur physique à faisceau électronique (EBPVD) et un procédé permettant d'utiliser l'appareil (10) pour produire un revêtement (par exemple, un revêtement de barrière thermique en céramique) sur un article (20). L'appareil d'EBPVD (10) comprend généralement une chambre de revêtement (12) qui peut fonctionner à des températures élevées et à des pressions subatmosphériques. Un canon à faisceau électronique (30) projette un faisceau électronique (28) dans la chambre de revêtement (12), sur un matériau de revêtement (26) placé à l'intérieur de la chambre de revêtement (12), entraînant la fusion et l'évaporation du matériau de revêtement. Un article (20) est supporté à l'intérieur de la chambre de revêtement (12) de façon que les vapeurs du matériau de revêtement (26) se déposent sur l'article (20). On améliore le fonctionnement de l'appareil d'EBPVD (10) en apportant une ou plusieurs modifications mécaniques et/ou de processus, y compris les modifications nécessaires ou avantageuses pour assurer le fonctionnement de l'appareil (10) à des pressions de revêtement supérieures à 0,010 mbar.
États désignés : JP, SG, UA.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)