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1. (WO2001010774) DISPOSITIF DE GENERATION/DISTRIBUTION D'HUMIDITE ET REACTEUR GENERATEUR D'HUMIDITE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/010774    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/004911
Date de publication : 15.02.2001 Date de dépôt international : 21.07.2000
CIB :
B01J 3/00 (2006.01), B01J 7/00 (2006.01), B01J 12/00 (2006.01), C01B 5/00 (2006.01)
Déposants : FUJIKIN INCORPORATED [JP/JP]; 3-2, Itachibori 2-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 550-0012 (JP) (Tous Sauf US).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP).
IKEDA, Nobukazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MINAMI, Yukio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWADA, Kouji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOMEHANA, Katunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HONIDEN, Teruo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAI, Touru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MORIMOTO, Akihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NARIAI, Toshirou [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAO, Keiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAGUCHI, Masaharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAMURA, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OHMI, Tadahiro; (JP).
IKEDA, Nobukazu; (JP).
MINAMI, Yukio; (JP).
KAWADA, Kouji; (JP).
KOMEHANA, Katunori; (JP).
HONIDEN, Teruo; (JP).
HIRAI, Touru; (JP).
MORIMOTO, Akihiro; (JP).
NARIAI, Toshirou; (JP).
HIRAO, Keiji; (JP).
TAGUCHI, Masaharu; (JP).
NAKAMURA, Osamu; (JP)
Mandataire : SUGIMOTO, Takeo; Kitahama-Katano Bldg., 1-21, Kitahama 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-0041 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/223548 06.08.1999 JP
11/338882 30.11.1999 JP
Titre (EN) MOISTURE GENERATING/SUPPLYING DEVICE AND MOISTURE GENERATING REACTOR
(FR) DISPOSITIF DE GENERATION/DISTRIBUTION D'HUMIDITE ET REACTEUR GENERATEUR D'HUMIDITE
Abrégé : front page image
(EN)A vacuum type moisture generating/supplying device comprising a moisture generating reactor for generating a moisture gas from hydrogen and oxygen through a catalyst reaction, and a vacuum means provided on the downstream side of this moisture generating reactor, wherein the vacuum means depressurizes the moisture gas for supplying to the downstream side and keeps the inner pressure of the reactor at a high level to thereby positively prevent a spontaneous combustion of hydrogen. A radiation type moisture generating reactor, comprising a reactor body for forming an inner space by combining an inlet-side furnace body member with an outlet-side furnace body member, a fin substrate tightly bonded to the outer wall surfaces of the respective furnace body members, and many radiating fins erected on the fin substrate, wherein the radiating fins forcibly radiate generated heat to cool the reactor, thereby generating a large amount of moisture despite its small size, and furthermore enhancing a radiation efficiency when the radiating fins are anodized for increased heat emissivity.
(FR)La présente invention concerne un dispositif générateur/distributeur d'humidité de type à vide comprenant un réacteur permettant de produire un gaz humide à partir d'hydrogène et d'oxygène au moyen d'une réaction catalytique, ainsi que des moyens de vide placés en aval de ce réacteur permettant d'obtenir une dépressurisation du gaz humide, en vue de sa distribution en aval, et afin de maintenir la pression interne du réacteur à un niveau élevé dans le but d'empêcher une combustion spontanée de l'hydrogène. L'invention concerne aussi un réacteur générateur d'humidité de type à rayonnement comprenant un corps de réacteur, destiné à former un espace intérieur, obtenu par combinaison d'un élément de four à entrée latérale et d'un élément de four à sortie latérale, un substrat à ailettes lié étroitement aux surfaces des parois extérieures des éléments de fours, et de nombreuses ailettes érigées sur ledit substrat, ces ailettes permettant de rayonner la chaleur produite afin de refroidir le réacteur. Ce réacteur génère ainsi une grande quantité d'humidité en dépit de sa petite taille avec en outre une efficacité de rayonnement renforcée lorsque les ailettes sont anodisées aux fins d'augmentation de l'émissivité.
États désignés : CA, CN, IL, KR, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (CH, DE, FR, GB, IT, NL).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)