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1. (WO2001009921) REDUCTION AU MINIMUM DE LA NEBULISATION ELECTRONIQUE EN GRAVURE PAR FAISCEAU ELECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/009921    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/040508
Date de publication : 08.02.2001 Date de dépôt international : 28.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.02.2001    
CIB :
H01J 37/09 (2006.01)
Déposants : ETEC SYSTEMS, INC. [US/US]; 26460 Corporate Avenue, Hayward, CA 94545 (US)
Inventeurs : INNES, Robert; (US).
VENEKLASEN, Lee, H.; (US).
SAGLE, Allan, L.; (US).
BABIN, Sergey, V.; (US).
HWA, Chen; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP, 12400 Wilshire Boulevard, 7th Floor, Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
09/365,589 30.07.1999 US
Titre (EN) MINIMIZATION OF ELECTRON FOGGING IN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
(FR) REDUCTION AU MINIMUM DE LA NEBULISATION ELECTRONIQUE EN GRAVURE PAR FAISCEAU ELECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A shield assembly (24) for reducing electron effects in electron beam lithography. This shield, located between an electron beam column final aperture and the beam target, is of multiple vanes (26) with sharp edges (28) pointing towards the electron beam incident point of the target; the vanes are conically shaped and concentric around the electron beam path (18), which travels through the center of the assembly. Additionally, the sharp edges are such that they present oblique surfaces at the ends of the vanes angled between 10° and 20° relative to the outer vane surface and these oblique surfaces face towards the electron beam path. Furthermore, the shield assembly may also have the vanes angled towards the beam incident point (22) such that the vertex of the conical vane assembly is coincident with the beam incident point.
(FR)Ensemble écran protecteur (24) destiné à réduire les effets de nébulisation électronique en gravure par faisceau électronique. Cet écran protecteur, situé entre l'ouverture finale de la colonne d'un faisceau électronique et la cible du faisceau, est constitué d'ailettes multiples (26) présentant des arêtes vives (28) pointant vers le point incident du faisceau électronique sur la cible, les ailettes sont de forme conique et concentrique autour du chemin du faisceau électronique (18), lequel passe par le centre de l'ensemble. De plus, les arêtes vives sont telles qu'elles présentent des surfaces obliques aux extrémités des ailettes dont l'angle se situe entre 10° et 20° par rapport à la surface extérieure des palettes et ces surfaces obliques sont tournées vers la trajectoire du faisceau électronique. De plus, l'ensemble écran de protection peut également avoir les ailettes en angle vers le point incident (22) du faisceau de manière que le sommet de l'ensemble à ailettes coniques soit coïncident avec le point incident du faisceau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)