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1. (WO2001007691) APPAREIL PERMETTANT DE FAIRE CROITRE DES COUCHES EPITAXIALES SUR DES PLAQUETTES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/007691    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/019879
Date de publication : 01.02.2001 Date de dépôt international : 24.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.02.2001    
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), C30B 25/12 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : EMCORE CORPORATION [US/US]; 145 Belmont Drive, Somerset, NJ 08873-1214 (US)
Inventeurs : STALL, Richard, A.; (US).
GURARY, Alexander; (US).
HOU, Hong, Q.; (US).
BEHERRELL, Scott; (US)
Mandataire : DOHERTY, Michael, J.; Lerner, David, Littenberg, Krumholz & Mentlik, LLP, 600 South Avenue West, Westfield, NJ 07090 (US)
Données relatives à la priorité :
60/145,672 26.07.1999 US
09/619,254 19.07.2000 US
Titre (EN) APPARATUS FOR GROWING EPITAXIAL LAYERS ON WAFERS
(FR) APPAREIL PERMETTANT DE FAIRE CROITRE DES COUCHES EPITAXIALES SUR DES PLAQUETTES
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus for growing epitaxial layers includes a spindle (142) having an opening (158) extending between upper and lower ends. A rotatable platform (134) is mounted to the upper end of the spindle, the platform including a top surface (136), a bottom surface (138) and a central opening (140) in substantial alignment with the spindle opening (158). The deposition chamber also includes a substantially porous wafer carrier (124) having wafer-receiving cavities (128) positioned over the top surface (136) of platform (134) and having a hollow space (130) in substantial alignment with central opening (140) of the platform (134). Spindle opening (158) is desirably connected to a vacuum pump so that the pressure level within hollow space (130) of the water carrier (124) is less than the pressure level within deposition chamber, thereby creating suction within the wafer-receiving cavities (128) for maintaining the wafers (122) in a substantially flat orientation.
(FR)L'invention concerne un appareil permettant de faire croître des couches épitaxiales comprenant une tige (142) munie d'une ouverture (158) s'étendant entre une extrémité supérieure et une extrémité inférieure. Une plate-forme rotative (134) est montée sur l'extrémité supérieure de la tige, cette plate-forme comprenant une surface supérieure (136), une surface inférieure (138) et une ouverture centrale (140) sensiblement alignée sur l'ouverture de la tige (158). La chambre de dépôt comporte également un support de plaquette sensiblement poreux (124) pourvu de cavités de réception des plaquettes (128) disposées sur la surface supérieure (136) de la plate-forme (134) et comprenant un espace creux (130) sensiblement alignée sur l'ouverture centrale (140) de la plate-forme (134). De préférence, l'ouverture de la tige (158) est reliée à une pompe à vide de sorte que le niveau de pression à l'intérieur de l'espace creux (130) du support de plaquette (124) soit inférieur au niveau de pression à l'intérieur de la chambre de dépôt, ce qui permet de produire une aspiration à l'intérieur des cavités de réception des plaquettes (128) afin de maintenir les plaquettes (122) dans une orientation sensiblement plate.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)