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1. WO2001004387 - SYSTEME DE LEVAGE ET DE ROTATION UTILISE DANS UN POSTE DE TRAITEMENT DE PIECES ET PROCEDE DE FIXATION DE CE SYSTEME

Lien permanent
Numéro de publication WO/2001/004387
Date de publication 18.01.2001
N° de la demande internationale PCT/US2000/018958
Date du dépôt international 12.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 06.09.2000
CIB
C25D 7/12 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
7Dépôt électrochimique caractérisé par l'objet à revêtir
12Semi-conducteurs
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
CPC
C25D 17/001
CCHEMISTRY; METALLURGY
25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
17Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
001Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
C25D 7/123
CCHEMISTRY; METALLURGY
25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
7Electroplating characterised by the article coated
12Semiconductors
123Semiconductors first coated with a seed layer or a conductive layer
H01L 21/67017
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
Déposants
  • SEMITOOL, INC. [US]/[US] (AllExceptUS)
  • WOODRUFF, Daniel, J. [US]/[US] (UsOnly)
  • BLECK, Martin, C. [US]/[US] (UsOnly)
  • HANSON, Kyle, M. [US]/[US] (UsOnly)
  • PEACE, Steven, L. [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • WOODRUFF, Daniel, J.
  • BLECK, Martin, C.
  • HANSON, Kyle, M.
  • PEACE, Steven, L.
Mandataires
  • WECHKIN, John, M.
Données relatives à la priorité
09/351,98012.07.1999US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LIFT AND ROTATE ASSEMBLY FOR USE IN A WORKPIECE PROCESSING STATION AND A METHOD OF ATTACHING THE SAME
(FR) SYSTEME DE LEVAGE ET DE ROTATION UTILISE DANS UN POSTE DE TRAITEMENT DE PIECES ET PROCEDE DE FIXATION DE CE SYSTEME
front page image
Abrégé
(EN)
A lift and rotate assembly (200), for use in a workpiece processing station (400), which includes a body (210) having a slim profile and pins (250) located on opposite sides for mounting the assembly onto a tool frame (100). The lift and rotating assembly (200) further includes a rotating mechanism (285) with motor (305), which motor is located in and coupled to a processing head (205) to the body (210), and is used for rotating the process head (205) with respect to the body (210). The lift and rotate assembly (200) includes a lift mechanism (255) and a cable assembly (295) including a common cable which provides at least one of signals, gases and fluids to the process head (205).
(FR)
La présente invention concerne un ensemble de levage et de rotation (200) destiné à être utilisé dans un poste de traitement de pièces (400), qui comprend un corps (210) doté d'un profil mince et de broches (250) placées sur des côtés opposés, grâce auxquelles on peut monter l'ensemble sur un châssis d'outil (100). L'ensemble de levage et de rotation (200) comprend en outre un mécanisme de rotation (285) muni d'un moteur (305), moteur qui est placé dans une tête de traitement (205) et couplé à celle-ci, et qui est utilisé pour faire tourner la tête de traitement (205) par rapport au corps (210). L'ensemble de levage et de rotation (200) comprend un mécanisme de levage (255) et un ensemble de câbles (295) renfermant un câble commun qui distribue des signaux, des gaz et/ou des fluides à la tête de traitement (205).
Également publié en tant que
CN1369024
EP1222323
JP2003504885
KR1020020062621
SG86121
US6168695
US6322677
US6342137
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international
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