WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2001004226) COMPOSITION CMP CONTENANT DES PARTICULES ABRASIVES MODIFIEES AU SILANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/004226    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/018342
Date de publication : 18.01.2001 Date de dépôt international : 05.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.02.2001    
CIB :
C09G 1/02 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; 870 N. Commons Drive, Aurora, IL 60504 (US)
Inventeurs : GRUMBINE, Steven, K.; (US).
STREINZ, Christopher, C.; (US).
WANG, Shumin; (US)
Mandataire : LANDO, Michelle, B.; Cabot Corporation, 157 Concord Road, P.O. Box 7001, Billerica, MA 01821-7001 (US)
Données relatives à la priorité :
60/142,706 07.07.1999 US
Titre (EN) CMP COMPOSITION CONTAINING SILANE MODIFIED ABRASIVE PARTICLES
(FR) COMPOSITION CMP CONTENANT DES PARTICULES ABRASIVES MODIFIEES AU SILANE
Abrégé : front page image
(EN)A polishing composition comprising a dispersion of silane modified abrasive particles formed by combining at least one metal oxide abrasive having at least one surface metal hydroxide with at least one silane compound and methods for polishing substrate features such as metal features and oxide features using the polishing compositions.
(FR)L'invention concerne une composition de polissage comprenant une dispersion de particules abrasives modifiées au silane, formées en combinant au moins un abrasif d'oxyde métallique ayant au moins un hydroxyde métallique superficiel, avec au moins un composé de silane. L'invention concerne en outre des procédés de polissage de substrats présentant les caractéristiques de métaux et d'oxydes, procédés utilisant lesdites compositions de polissage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)