WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2001003858) PROCEDE ET SYSTEME DE NETTOYAGE SUR SITE D'EQUIPEMENT DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS UTILISANT DES COMBINAISONS DE PRODUITS CHIMIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/003858    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/040359
Date de publication : 18.01.2001 Date de dépôt international : 12.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    02.02.2001    
CIB :
B08B 7/00 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Déposants : ASML US, INC. [US/US]; 440 Kings Village Road, Scotts Valley, CA 95066 (US)
Inventeurs : MAYER, Bruce, E.; (US).
CHATHAM, Robert, H., III; (US).
INGLE, Nitin, K.; (US).
YUAN, Zheng; (US)
Mandataire : TEST, Aldo, J.; Flehr Hohbach Test Albritton & Herbert LLP, Suite 3400, 4 Embarcadero Center, San Francisco, CA 94111-4187 (US)
Données relatives à la priorité :
60/143,285 12.07.1999 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR IN SITU CLEANING OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT USING COMBINATION CHEMISTRIES
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE NETTOYAGE SUR SITE D'EQUIPEMENT DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS UTILISANT DES COMBINAISONS DE PRODUITS CHIMIQUES
Abrégé : front page image
(EN)An in situ, two step or combination, method and system for cleaning of semiconductor manufacturing equipment (10) is provided. The present invention utilizes two separate fluorine based chemistries in each step which selectively target the removal of different types of deposits that build up on the equipment surfaces. In particular, powdery and dense film-like solid deposits, as well as a combination of both, build up on the chamber (12) surfaces and associated equipment components. These two types of deposits are removed selectively by the present invention. Such selective targeting of combined cleaning steps, yields an improved cleaning technique. In another embodiment, the method and system of the present invention provides for cleaning of the chamber (12) and associated equipment using separate steps with different chemicals, and then performing these steps in a variety of desired sequences.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un système de nettoyage sur site, en deux temps ou de façon combinée, d'équipement de fabrication de semi-conducteurs (10). L'invention fait intervenir pour chaque temps deux produits chimiques fluorés distincts qui ciblent sélectivement l'élimination de différents types de dépôts s'accumulant sur les surfaces de l'équipement tels que les dépôts solides pulvérulents et les dépôts en couches compactes, ainsi qu'une combinaison des deux, s'accumulant sur les surfaces de la chambre (12) et des composants des équipements associés. Ces deux types de dépôts s'éliminent sélectivement au moyen de l'invention. Un tel ciblage sélectif des temps combinés de nettoyage aboutit à une technique de nettoyage améliorée. Selon une autre réalisation, le procédé et le système de l'invention permettent un nettoyage de la chambre (12) et de l'équipement associé en utilisant des temps séparés avec différents produis chimiques, puis en exécutant ces temps dans une variété de séquences voulues.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)