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1. (WO2001001736) DISPOSITIF POUR LA GENERATION D'UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTREME ET D'UN RAYONNEMENT X A FAIBLE ENERGIE A PARTIR D'UNE DECHARGE DE GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/001736    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/006080
Date de publication : 04.01.2001 Date de dépôt international : 29.06.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    29.01.2001    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstrasse 54, D-80636 München (DE) (Tous Sauf US).
NEFF, Willi [DE/BE]; (BE) (US Seulement).
LEBERT, Rainer [DE/BE]; (BE) (US Seulement).
BERGMANN, Klaus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ROSIER, Oliver [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : NEFF, Willi; (BE).
LEBERT, Rainer; (BE).
BERGMANN, Klaus; (DE).
ROSIER, Oliver; (DE)
Données relatives à la priorité :
99112403.3 29.06.1999 EP
199 62 160.8 22.12.1999 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG VON EXTREM-ULTRAVIOLETT- UND WEICHER RÖNTGENSTRAHLUNG AUS EINER GASENTLADUNG
(EN) DEVICE FOR PRODUCING AN EXTREME ULTRAVIOLET AND SOFT X RADIATION FROM A GASEOUS DISCHARGE
(FR) DISPOSITIF POUR LA GENERATION D'UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTREME ET D'UN RAYONNEMENT X A FAIBLE ENERGIE A PARTIR D'UNE DECHARGE DE GAZ
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und weicher Röntgenstrahlung aus einer auf dem linken Ast der Paschenkurve betriebenen Gasentladung, bei der zwei Hauptelektroden vorgesehen sind, zwischen denen sich ein gasgefüllter Zwischenraum befindet, bei der die Hauptelektroden je eine Öffnung aufweisen, durch welche eine Symmetrieachse (5) definiert ist, und bei der Mittel zur Erhöhung der Konversionseffizienz vorgesehen sind. Bevorzugtes Anwendungsgebiete sind solche die extreme Ultraviolett- (EUV-) Strahlung oder weiche Röntgenstrahlung im Wellenlängenbereich von ca. 1-20 nm benötigen, und insbesondere um 13 nm, wie zum Beispiel die EUV-Lithografie.
(EN)The invention relates to a device for producing an extreme ultraviolet and soft X radiation from a gaseous discharge that is effected on the left branch of the Paschen curve. The inventive device is provided with two main electrodes between which a gas-filled intermediate space is defined. Said main electrodes have respective openings which define an axis of symmetry (5). The device is further provided with means for increasing the conversion efficiency. The inventive device is especially useful for applications which require extreme ultraviolet (EUV) radiation or soft X radiation in the wavelength range of from about 1-20 nm, and especially about 13 nm, for example for EUV lithography.
(FR)L'invention concerne un dispositif servant à générer un rayonnement ultraviolet extrême et un rayonnement X à faible énergie à partir d'une décharge de gaz effectuée sur la branche gauche de la courbe de Paschen. Le dispositif selon l'invention comporte deux électrodes principales entre lesquelles se situe un espace intermédiaire rempli de gaz et qui présentent chacune une ouverture par laquelle est défini un axe de symétrie (5); il comporte également des éléments servant à augmenter l'efficacité de conversion. Le dispositif selon l'invention convient tout particulièrement aux domaines d'application nécessitant un rayonnement ultraviolet extrême ou un rayonnement X à faible énergie dans la gamme d'ondes d'environ 1 à 20 nm, en particulier autour de 13 nm, comme par exemple la lithographie aux rayons ultraviolets extrêmes.
États désignés : JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)