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1. (WO2001001457) BARRIERE MOBILE POUR TRAITEMENTS DE GRAVURE MULTIPLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/001457    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/017140
Date de publication : 04.01.2001 Date de dépôt international : 21.06.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.01.2001    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; P0513.PCT, 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6516 (US)
Inventeurs : NI, Tuqiang; (US).
TAKESHITA, Kenji; (US).
MCMILLIN, Brian, K.; (US)
Mandataire : LEE, Michael; Beyer Weaver & Thomas, LLP, Post Office Box 130, Mountain View, CA 94042-0130 (US)
Données relatives à la priorité :
09/347,583 30.06.1999 US
Titre (EN) MOVEABLE BARRIER FOR MULTIPLE ETCH PROCESSES
(FR) BARRIERE MOBILE POUR TRAITEMENTS DE GRAVURE MULTIPLES
Abrégé : front page image
(EN)A process chamber for a plasma processing apparatus is provided in which etch uniformity is maintained in both chemically driven and ion driven processes. The process chamber utilizes a barrier whose position relative to a wafer may be changed. During chemically driven processes, the barrier may be established so as to substantially prevent the diffusion of neutral reactants from regions outside the perimeter of the wafer. During ion driven processes, the barrier may be moved (e.g., withdrawn) so as to not compromise the ion driven etch.
(FR)L'invention concerne une chambre de traitement destinée à un appareil de traitement au plasma, qui permet de maintenir l'uniformité de la gravure à la fois dans des traitements commandés chimiquement et dans des traitements commandés par ions. Ladite chambre de traitement utilise une barrière dont la position par rapport à une tranche peut être modifiée. Au cours de traitements commandés chimiquement, la barrière peut être établie de façon à empêcher sensiblement la diffusion de réactifs neutres provenant de zones situées au-delà de la périphérie de la tranche. Au cours de traitements commandés par ions, la barrière peut être déplacée (par exemple, retirée), de manière à ne pas compromettre la gravure commandée par ions.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)