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1. (WO2001001443) PROCESSEUR DE PLASMA AVEC BOBINE AGISSANT EN REPONSE A UNE ENVELOPPE H.F. A AMPLITUDE VARIABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/001443    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/017088
Date de publication : 04.01.2001 Date de dépôt international : 22.06.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    29.01.2001    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US)
Inventeurs : HOLLAND, John; (US)
Mandataire : LOWE, Allan, M.; Lowe Hauptman Gopstein Gilman & Berner, LLP, 1700 Diagonal Road, Suite 310, Alexandria, VA 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
09/343,246 30.06.1999 US
Titre (EN) PLASMA PROCESSOR WITH COIL RESPONSIVE TO VARIABLE AMPLITUDE RF ENVELOPE
(FR) PROCESSEUR DE PLASMA AVEC BOBINE AGISSANT EN REPONSE A UNE ENVELOPPE H.F. A AMPLITUDE VARIABLE
Abrégé : front page image
(EN)A vacuum plasma processor includes a coil for reactively exciting a plasma so plasma incident on a workpiece has substantially uniformity. The coil and a window which reactively couples fields from the coil to the plasma have approximately the same diameter. An r.f. source supplies a pulse amplitude modulated envelope including an r.f. carrier to the coil.
(FR)L'invention concerne un processeur au plasma sous vide. Ce processeur comprend une bobine pour exciter de manière réactive un plasma, de telle sorte que le plasma incident sur une pièce soit sensiblement uniforme. Une bobine et une fenêtre, couplant des champs depuis la bobine au plasma, présentent approximativement le même diamètre. Une source H.F. fournit une enveloppe à modulation d'impulsions en amplitude, avec une porteuse H.F. pour la bobine.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)