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1. (WO2001000907) POLISSAGE DE LENTILLES OPTIQUES ET DE PREFORMES EN CRISTAL DE FLUORURE AVEC DE L'OXYDE DE CERIUM POUR MICROLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/000907    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/015575
Date de publication : 04.01.2001 Date de dépôt international : 06.06.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.12.2000    
CIB :
B24B 57/02 (2006.01), B24B 13/00 (2006.01), B24B 13/06 (2006.01), B24B 37/04 (2012.01), B24B 49/16 (2006.01), C30B 29/12 (2006.01), C30B 33/00 (2006.01)
Déposants : CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza, Corning, NY 14831 (US) (Tous Sauf US).
DARCANGELO, Charles, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
SABIA, Robert [US/US]; (US) (US Seulement).
STEVENS, Harrie, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
WILLIAMSON, Paul, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DARCANGELO, Charles, M.; (US).
SABIA, Robert; (US).
STEVENS, Harrie, J.; (US).
WILLIAMSON, Paul, J.; (US)
Mandataire : MURPHY, Edward, F.; Patent Department, SP TI 3-1, Corning Incorporated, Corning, NY 14831 (US)
Données relatives à la priorité :
60/141,140 25.06.1999 US
Titre (EN) POLISHING OF FLUORIDE CRYSTAL OPTICAL LENSES AND PREFORMS USING CERIUM OXIDE FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) POLISSAGE DE LENTILLES OPTIQUES ET DE PREFORMES EN CRISTAL DE FLUORURE AVEC DE L'OXYDE DE CERIUM POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a means for making below 200 nm VUV optical microlithography lens elements and preforms therefor. The inventive methods include polishing a fluoride optical lithography crystal with cerium to a surface roughness less than five angstroms. The invention includes making a 157 nm VUV optical lithography element preform by polishing a calcium fluoride crystal with cerium oxide polish.
(FR)L'invention concerne un dipositif servant à fabriquer des éléments pour lentilles microlithographiques optiques V.U.V de moins de 200nm, ainsi que des préformes à cet effet. Les procédés de l'invention consistent à polir un cristal lithographique optique de fluorure avec du cérium de manière à obtenir une rugosité de surface inférieure à cinq angströms. L'invention concerne également la fabrication d'une préforme d'élément lithographique optique V.U.V de 157nm par polissage d'un cristal de fluorure de calcium avec un produit à polir à base d'oxyde de cérium.
États désignés : JP, KR, RU, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)