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1. (WO2001000745) COMPOSITION POUR LE POLISSAGE D'UN SUBSTRAT DE DISQUE MAGNETIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE CE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/000745    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/004245
Date de publication : 04.01.2001 Date de dépôt international : 28.06.2000
CIB :
C09G 1/02 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 105-8518 (JP) (Tous Sauf US).
MIYATA, Norihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIYATA, Norihiko; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; OR Building, 23-3, Takadanobaba 3-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8925 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/181753 28.06.1999 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR POLISHING SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISK AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISK
(FR) COMPOSITION POUR LE POLISSAGE D'UN SUBSTRAT DE DISQUE MAGNETIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE CE SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A composition for polishing a substrate for a magnetic disk, which comprises water, fine titanium oxide particles and a polishing promoter, characterized in that 90 to 100 % of the titanium oxide constituting said particles has the same crystal structure; and a method for producing a substrate for a magnetic disk using the composition. The composition can be used for polishing a substrate for a magnetic disk, at an economical polishing rate, so as to have a reduced surface roughness and to become free from the occurrence of fine defects such as projections, scraches by abrasion and micropits.
(FR)L'invention porte sur une composition destinée au polissage d'un substrat de disque magnétique. Cette composition comprend de l'eau, de fines particules d'oxyde de titane et un promoteur de polissage, et se caractérise en ce que les 90 à 100 % d'oxyde de titane constituant ces particules ont la même structure cristalline. L'invention porte également sur un procédé de fabrication d'un substrat de disque magnétique utilisant la composition. La composition peut être utilisée pour polir le substrat du disque magnétique, à une vitesse de polissage économique, de sorte que la rugosité de surface soit réduite et qu'il n'y ait pas de formation de défauts tels que éléments saillants, rayures par abrasion et creux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)