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1. (WO2001000623) PROCEDE DE FABRICATION DE DERIVES DE NITROGUANIDINE ET DE NITROENAMINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/000623    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/005762
Date de publication : 04.01.2001 Date de dépôt international : 21.06.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.12.2000    
CIB :
C07C 257/22 (2006.01), C07C 261/00 (2006.01), C07C 277/08 (2006.01), C07C 279/36 (2006.01), C07D 213/38 (2006.01), C07D 213/40 (2006.01), C07D 277/28 (2006.01), C07D 307/14 (2006.01), C07D 401/06 (2006.01), C07D 417/06 (2006.01)
Déposants : SYNGENTA PARTICIPATIONS AG [CH/CH]; Schwarzwaldallee 215, CH-4058 Basel (CH) (AE, AG, AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW only).
SEIFERT, Gottfried [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
RAPOLD, Thomas [DE/CH]; (CH) (US Seulement).
GISIN, Verena [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : SEIFERT, Gottfried; (CH).
RAPOLD, Thomas; (CH).
GISIN, Verena; (CH)
Mandataire : BECKER, Konrad; Syngeta Participations AG, Intellectual Property, P.O. Box, CH-4002 Basel (CH).
BASTIAN, Werner; Syngeta Participations AG, Intellectual Property, P.O. Box, CH-4002 Basel (CH)
Données relatives à la priorité :
1171/99 23.06.1999 CH
Titre (EN) METHOD OF PRODUCING NITROGUANIDINE- AND NITROENAMINE DERIVATIVES
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE DERIVES DE NITROGUANIDINE ET DE NITROENAMINE
Abrégé : front page image
(EN)Method of producing compounds of formula (I), wherein R¿1? is hydrogen or C¿1?-C¿4?-alkyl; R¿2? is hydrogen, C¿1?-C¿8?-alkyl, C¿3?-C¿6?-cycloalkyl, or a radical -N(R¿3?)R¿4?; or R¿2? and R¿6? together are -CH¿2?-CH¿2?-S-; R¿3? and R¿4? are hydrogen, C¿1?-C¿4?-alkyl, C¿3?-C¿6?-cycloalkyl or a radical -CH¿2?B; R¿6? is hydrogen, C¿1?-C¿8?-alkyl, aryl or benzyl; or R¿3? and R¿6? together are -CH¿2?-CH¿2?-, -CH¿2?-CH¿2?-CH¿2?-, -CH¿2?-O-CH¿2?-, -CH¿2?-S-CH¿2?- or -CH¿2?-N(R¿5?)-CH¿2?-; X is CH-CN; CH-NO¿2? or N-NO¿2?; A is an optionally substituted, aromatic or non-aromatic, monocyclic or bicyclic heterocyclic radical; and B is optionally substituted phenyl, 3-pyridyl or thiazolyl; characterised in that a compound of formula (II), wherein R¿2?, R¿6? and X have the same significance as given above in formula (I), is reacted in the presence of a phase transfer catalyst and a base with a compound of formula (III), wherein A and R¿1? have the same significance as given above in formula (I) and Q is a leaving group.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de composés correspondant à la formule (I), dans laquelle R¿1? est hydrogène ou alkyle C¿1?-C¿4?; R¿2? est hydrogène, alkyle C¿1?-C¿8?, cycloalkyle C¿3?-C¿6? ou un radical -N(R¿3?)R¿4?; ou R¿2? et R¿6? sont ensemble -CH¿2?-CH¿2?S-; R¿3? et R¿4? sont hydrogène, alkyle C¿1?-C¿4?, cycloalkyle C¿3?-C¿6? ou un radical -CH¿2?B; R¿6? est hydrogène, alkyle C¿1?-C¿8?, aryle ou benzyle; ou R¿3? et R¿6? sont ensemble -CH¿2?-CH¿2?-, -CH¿2?-CH¿2?-CH¿2?-, -CH¿2?-O-CH¿2?-, -CH¿2?-S-CH¿2?- ou -CH¿2?-N(R¿5?)-CH¿2?-; X est CH-CN; CH-NO¿2? ou N-NO¿2?; A est un radical hétérocyclique monocyclique ou bicyclique aromatique ou non-aromatique éventuellement substitué; B est un phényle, 3-pyridyle ou thiazolyle éventuellement substitué; caractérisée en ce que le composé de la formule (II), dans laquelle R¿2?, R¿6? et X ont les mêmes significations que dans la formule (I), réagit en présence d'un catalyseur à transfert de phase et d'une base avec un composé correspondant à la formule (III), dans laquelle A et R¿1? ont les mêmes significations que dans la formule (I) et Q est un groupe partant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)