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1. (WO2001000606) PROCEDE DE LACTONISATION SELECTIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/000606    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/004269
Date de publication : 04.01.2001 Date de dépôt international : 29.06.2000
CIB :
C07D 309/30 (2006.01)
Déposants : KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-8288 (JP) (Tous Sauf US).
FUKAE, Masafumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UEDA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TATSUKI, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKAE, Masafumi; (JP).
UEDA, Makoto; (JP).
TATSUKI, Kenichi; (JP)
Mandataire : YASUTOMI, Yasuo; Chuo Building, 4-20, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 532-0011 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/183640 29.06.1999 JP
Titre (EN) PROCESS FOR SELECTIVE LACTONIZATION
(FR) PROCEDE DE LACTONISATION SELECTIVE
Abrégé : front page image
(EN)A process for the lactonization of compounds of general formula (1) which makes it possible to suppress the formation of dimmers difficultly removable by conventional crystallization purification. Specifically, a compound of general formula (2) having a dimmer content of 0.3 mole % or below is prepared by lactonizing the corresponding compound of general formula (1) under such conditions that the solubility of the compound (1) and/or the compound (2) is 0.5 w/w% or below.
(FR)L'invention porte sur un procédé de lactonisation sélective de composés de la formule générale (1), qui permet d'empêcher la formation de dimères difficiles à éliminer par un procédé classique du purification par cristallisation. Plus particulièrement, un composé de la formule générale (2) présentant une teneur en dimère d'au plus 0,3 mole pour cent est préparé par lactonisation du composé correspondant de la formule générale (1) dans des conditions telles que la solubilité du composé (1) et/ou du composé (2) représente au plus 0,5 % en poids.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)