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1. (WO2000057455) TECHNIQUE DE TRAITEMENT DE TRANCHE ET DISPOSITIF CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/057455    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/006217
Date de publication : 28.09.2000 Date de dépôt international : 08.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.09.2000    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94568-6516 (US)
Inventeurs : RAVKIN, Michael; (US)
Mandataire : PENILLA, Albert, S.; Martine Penilla & Kim, LLP, Suite 170, 710 Lakeway Drive, Sunnyvale, CA 94086 (US)
Données relatives à la priorité :
09/272,874 19.03.1999 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING A WAFER
(FR) TECHNIQUE DE TRAITEMENT DE TRANCHE ET DISPOSITIF CORRESPONDANT
Abrégé : front page image
(EN)A method and apparatus for processing wafer edges is disclosed. Pressure applied to the wafer at one end of a brush/pad assembly is greater than at the opposite end of the brush/pad assembly. The increased pressure causes wafer rotation to slow or to reverse direction as compared to less pressure applied by the brush/pad assembly. In one embodiment slowed rotation causes a difference in tangential velocity between the roller(s) and the wafer edge/bevel that causes pads in the roller(s) to process the edge/bevel of the wafer. In another embodiment, the opposite direction of rotation causes the wafer to rotate counter to rollers otherwise causing the wafer to rotate. Cleaning surfaces in the rollers clean the edges of the wafer whether rotation is slowed or reversed.
(FR)Cette invention a trait à une technique de traitement des arêtes d'une tranche ainsi qu'au dispositif correspondant. Une pression appliquée à une extrémité d'un ensemble brosse/patin est supérieure à celle qui est appliquée à l'extrémité opposée. La pression accrue, en comparaison de la pression moindre appliquée par l'ensemble brosse/patin, fait que la vitesse de rotation de la tranche diminue ou que le sens de rotation s'inverse. Dans une réalisation, la diminution de la vitesse de rotation entraîne une différence de vitesse tangentielle entre le ou les cylindre(s) et l'arête/chanfrein de la tranche. Dans une autre réalisation, le sens inversé de rotation fait que la tranche tourne à l'inverse des cylindres qui, autrement, entraîneraient la rotation de la tranche. Des surfaces nettoyantes se trouvant sur les cylindres nettoient les arêtes de la tranche, que la rotation soit ralentie ou inversée.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)