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1. (WO2000057451) ELEMENT DE CATHODE EN FORME DE MOULE A MUFFINS POUR POMPE IONIQUE DIODE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/057451    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/002546
Date de publication : 28.09.2000 Date de dépôt international : 17.03.2000
CIB :
H01J 41/18 (2006.01), H01J 41/20 (2006.01)
Déposants : FEI COMPANY [US/US]; 7451 NW Evergreen Parkway, Hillsboro, OR 97124-5830 (US)
Inventeurs : MCGINN, James, B.; (NL)
Mandataire : BAKKER, Hendrik; Internationaal Octrooibureau B.V., Prof Holstlaan 6, NL-5656 AA Eindhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
60/125,318 19.03.1999 US
Titre (EN) MUFFIN TIN STYLE CATHODE ELEMENT FOR DIODE SPUTTER ION PUMP
(FR) ELEMENT DE CATHODE EN FORME DE MOULE A MUFFINS POUR POMPE IONIQUE DIODE
Abrégé : front page image
(EN)Diode sputter ion pumps display instabilities like current bursts, leakage currents and arcs typically following pumping exposure to gas doses greater than the ultimate pressure of the vacuum system in which the pump is operating. The instabilities are disruptive to the devices to which the sputter ion pump is attached. The invention provides an ion pump that exhibits improved stability and reduced leakage current. The instabilities are caused by explosive arc emission and electron emission from structures like dendritic protrusions that grow on the cathode plate, whose shape and placement give rise to high electric fields. According to the invention the cathode includes a sputterable material for removing gases from the environment of the ion pump and shaped so that during operation of the ion pump the electric field in a dendritic growth region is insufficient to cause field emission from the dendrites thereby reducing instabilities in the operation of the ion pump.
(FR)Les pompes ioniques diodes présentent des instabilités telles que des impulsions de courant, des arcs et des courants de fuite généralement suite à une exposition du pompage à des doses de gaz supérieures à celles de la dernière pression de l'installation de vide à l'intérieur de laquelle la pompe fonctionne. Ces instabilités perturbent les dispositifs auxquels la pompe ionique à pulvérisation est reliée. Cette invention concerne une pompe ionique qui présente une stabilité améliorée et un courant de fuite diminué. Les instabilités sont occasionnées par l'émission explosive de l'arc et l'émission d'électrons provenant de structures similaires à des protubérances dendritiques qui croissent sur la plaque de la cathode, dont la forme et l'emplacement provoquent des champs électriques élevés. Selon cette invention, la cathode comprend une matière pulvérisable destinée à éliminer les gaz de l'entourage de la pompe ionique, et se présentant sous une forme caractérisée en ce que pendant le fonctionnement de la pompe ionique, le champ électrique dans la zone de croissance dendritique est insuffisant pour provoquer une émission de champ à partir des dendrites, ce qui permet de réduire les instabilités lors du fonctionnement de la pompe ionique.
États désignés : JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)