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1. (WO2000057249) REVELATEUR DE RESERVE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESERVE UTILISANT CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/057249    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/001640
Date de publication : 28.09.2000 Date de dépôt international : 17.03.2000
CIB :
G03F 7/32 (2006.01)
Déposants : NIPPON ZEON CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8323 (JP) (Tous Sauf US).
OZAWA, Kakuei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ABE, Nobunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OZAWA, Kakuei; (JP).
ABE, Nobunori; (JP)
Mandataire : UCHIYAMA, Mitsuru; TSI Sudacho Building 8F, 4-1, Kandasudacho 1-chome, Chiyodaku, Tokyo 101-0041 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/74715 19.03.1999 JP
Titre (EN) RESIST DEVELOPER AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
(FR) REVELATEUR DE RESERVE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESERVE UTILISANT CELUI-CI
Abrégé : front page image
(EN)A resist developer containing an organic solvent having a boiling point of more than 180 °C under normal pressure for developing a resist material containing a copolymer of a styrene monomer and an acrylic monomer and used to form a resist pattern by an electron beam, and a method for forming a resist pattern by forming a latent image on a photosensitive film of such a resist material by applying an electron beam and performing development by a paddle method using such a developer. By using the resist developer, a resist pattern is formed on a substrate with suppressed pattern dimension error and good dimension stability even by even development by a paddle method.
(FR)L'invention concerne un révélateur de réserve contenant un solvant organique ayant un point d'ébullition supérieur à 180 °C sous une pression normale, conçu pour développer un matériau de réserve contenant un polymère d'un monomère de styrène et un monomère acrylique et servant à former un motif de réserve à l'aide d'un faisceau électronique. L'invention concerne également un procédé permettant de former un motif de réserve par formation d'une image latente sur un film photosensible fait dudit matériau de réserve par application d'un faisceau électronique et exécution du développement au moyen d'un agitateur à palettes faisant appel audit révélateur. L'utilisation du révélateur de réserve permet de former un motif de réserve sur un substrat avec suppression d'erreur dimensionnelle de motif et bonne stabilité dimensionnelle même par développement par paire au moyen d'un agitateur à palettes.
États désignés : KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)