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1. (WO2000056946) REVETEMENT RESISTANT A L'USURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/056946    N° de la demande internationale :    PCT/CZ2000/000019
Date de publication : 28.09.2000 Date de dépôt international : 17.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.10.2000    
CIB :
C23C 14/32 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : SHM, S.R.O. [CZ/CZ]; Masarykovo nám. 3, 787 01 Šumperk (CZ) (Tous Sauf US).
HOLUBÁŘ, Pavel [CZ/CZ]; (CZ) (US Seulement).
JÍLEK, Mojmír [CZ/CZ]; (CZ) (US Seulement)
Inventeurs : HOLUBÁŘ, Pavel; (CZ).
JÍLEK, Mojmír; (CZ)
Mandataire : SMOLA, Josef; Kania.Sedlák.Smola, Mendlovo nám. 1a, 603 00 Brno (CZ)
Données relatives à la priorité :
PV 1054-99 24.03.1999 CZ
Titre (EN) WEAR RESISTANT COATING
(FR) REVETEMENT RESISTANT A L'USURE
Abrégé : front page image
(EN)Wear resistant coating deposited on a substrate, containing B and N elements, is created at least by two layers of which the first layer has internal stress exceeding 1 GPa, thickness exceeding 0.1 $g(m)m and consists predominantly of Ti and N elements, the second layer being created predominantly by Ti, N, B elements, with at least 5 % contents of B and thickness at least 0.5 $g(m)m. The process of creating a wear resistant coating on a substrate by depositing is performed by vapor plating by low voltage arc in a reaction atmosphere by way of a physical method (PVD) and/or chemical method from a gaseous phase under the presence of plasma (PACVD), the ionisation of plasma for depositing by PACVD being effected by low voltage arc. The apparatus for preparing wear resistant layers using the method of low voltage arc with cathode (2, 2a, 2b) being arranged in a coating chamber. The axes of cathode (2, 2a, 2b) is substantially vertical, a source of magnetic field being available for the cathode (2, 2a, 2b). The source of magnetic field is preferably at least one electromagnetic coil (11, 12, 11a, 11B, 12a, 12b).
(FR)Ce revêtement résistant à l'usure, déposé sur un substrat, contenant les éléments B et N, est constitué d'au moins deux couches, la première présentant une contrainte interne supérieure à 1 Gpa, une épaisseur supérieure à 0,1 $g(m)m et étant principalement constituée des éléments Ti et de N tandis que la seconde couche est principalement constituée des éléments Ti, N et B, avec une teneur en B d'au moins 5 % et a une épaisseur d'au moins 0,5 $g(m)m. Le procédé de production de ce revêtement résistant à l'usure sur un substrat met en oeuvre un placage en phase vapeur réalisé au moyen d'un arc à faible tension dans une atmosphère réactionnelle et ce, par le biais d'une technique physique (dépôt physique en phase vapeur) et/ou d'une technique chimique à partir d'une phase gazeuse en présence de plasma (dépôt chimique en phase vapeur à l'aide de plasma). L'ionisation du plasma aux fins du dépôt chimique en phase vapeur à l'aide de plasma se fait grâce à un arc à faible tension. L'appareil permettant de produire des couches résistant à l'usure fait intervenir la technique de l'arc à faible tension avec cathode (2, 2a, 2b) placée dans une chambre d'enduction. Les axes de la cathode (2, 2a, 2b) sont sensiblement verticaux. La cathode (2, 2a, 2b) dispose d'une source de champ magnétique, laquelle source est, de préférence, au moins une bobine électromagnétique (11, 12, 11a, 11B, 12a, 12b).
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)