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1. (WO2000056430) MATERIAU RESINE DESTINE A UN SUPPORT DE SEPARATION DE GAZ ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/056430    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/001751
Date de publication : 28.09.2000 Date de dépôt international : 22.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.09.2000    
CIB :
B01D 53/22 (2006.01), B01D 71/24 (2006.01), B01D 71/44 (2006.01), B01D 71/52 (2006.01), B01D 71/56 (2006.01), B01D 71/64 (2006.01), B01D 71/68 (2006.01), B01D 71/82 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01)
Déposants : NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8921 (JP) (Tous Sauf US).
RESEARCH INSTITUTE OF INNOVATIVE TECHNOLOGY FOR THE EARTH [JP/JP]; 9-2, Kizugawadai, Kizu-cho, Soraku-gun, Kyoto 619-0292 (JP) (Tous Sauf US).
NIPPON STEEL CORPORATION [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8071 (JP) (Tous Sauf US).
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-0041 (JP) (Tous Sauf US).
TACHIKI, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MANO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HARAYA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TACHIKI, Akira; (JP).
MANO, Hiroshi; (JP).
HARAYA, Kenji; (JP)
Mandataire : NARUSE, Katsuo; Central Shinbashi Building, 5th floor, 11-5, Nishi-shinbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 105-0003 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/77994 23.03.1999 JP
Titre (EN) RESIN MATERIAL FOR GAS SEPARATION BASE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) MATERIAU RESINE DESTINE A UN SUPPORT DE SEPARATION DE GAZ ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Abrégé : front page image
(EN)A resin material for gas separation bases which has a cardo-type polymer structure in which at least 0.1% of the hydrogen atoms of the pendant benzyl and/or allyl groups have been replaced by a halogen or a resin material for gas separation bases which comprises a polymer in which at least 34% of the hydrogen atoms of the pendant benzyl and/or allyl groups have been replaced by a halogen; the polymer constituting the resin material for gas separation bases which has the cardo-type polymer structure; and a process for producing the polymer. The resin material not only is excellent in solvent solubility, easiness of film formation by a wet process, thermal stability, chemical stability, etc., but has better performances with respect to gas permeability and gas selectivity. Thus, a gas separation base, especially a gas separation membrane, can be produced in which gas permeability and gas selectivity can be easily controlled.
(FR)La présente invention concerne un matériau résine destiné à des supports de séparation de gaz, présentant une structure polymère de type en peigne dans lequel au moins 0,1 % des atomes d'hydrogène des groupes latéraux benzyle et/ou allyle sont remplacés par un halogène, ou présentant une structure de polymère dans lequel au moins 34 % des atomes d'hydrogène des groupes latéraux benzyle et/ou allyle sont remplacés par un halogène. Elle concerne aussi le polymère constituant le matériau résine destiné à des supports de séparation de gaz, ainsi que le procédé de production de ce polymère. Le matériau résine possède non seulement d'excellentes caractéristiques, entre autres, de solubilité dans les solvants, de facilité de formation de film par voie humide, de stabilité thermique, de stabilité chimique, mais présente de meilleures performances en ce qui concerne la perméabilité et la sélectivité des gaz. Ainsi, il est possible de produire un support de séparation de gaz, plus spécialement une membrane de séparation de gaz, dans lequel la perméabilité et la sélectivité des gaz peut être facilement régulée.
États désignés : CA, JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)