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1. (WO2000056345) PROCEDE POUR LIMITER LA FORMATION DE CICATRICES ET D'ADHERENCES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/056345    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/007669
Date de publication : 28.09.2000 Date de dépôt international : 22.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.10.2000    
CIB :
A61K 38/08 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF SOUTHERN CALIFORNIA [US/US]; Suite 313, 3716 S. Hope Street, Los Angeles, CA 90007-4334 (US) (Tous Sauf US).
RODGERS, Kathleen [US/US]; (US) (US Seulement).
DIZEREGA, Gere [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : RODGERS, Kathleen; (US).
DIZEREGA, Gere; (US)
Mandataire : HARPER, David, S.; McDonnell, Boehnen, Hulbert & Berghoff, Suite 3200, 300 South Wacker Drive, Chicago, IL 60606 (US)
Données relatives à la priorité :
60/125,707 23.03.1999 US
60/139,541 16.06.1999 US
Titre (EN) METHODS FOR LIMITING SCAR AND ADHESION FORMATION
(FR) PROCEDE POUR LIMITER LA FORMATION DE CICATRICES ET D'ADHERENCES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides methods, kits, and pharmaceutical compositions for limiting scar or adhesion formation by administration of angiotensinogen, AI, AI analogues, and/or AI fragments and analogues thereof, AII analogues, AII fragments or analogues thereof, ACE inhibitors, AII AT¿2? type 2 receptor agonists, either alone or in combination with other compounds.
(FR)La présente invention concerne des procédés, des kits et des compositions pharmaceutiques destinées à limiter la formation de cicatrices et d'adhérences par l'administration de l'angiotensinogène, d'AI, d'analogues et/ou de fragments d'AI, d'analogues et/ou de fragments AII, d'inhibiteurs ACE, d'agonistes de récepteurs AT¿2? de type 2 d'AII, pris séparément ou en combinaison avec d'autres composés.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)