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1. (WO2000056062) MOTIFS DEUX TONS AMELIORES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/056062    N° de la demande internationale :    PCT/NZ2000/000029
Date de publication : 21.09.2000 Date de dépôt international : 16.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.10.2000    
CIB :
H04N 1/405 (2006.01), H04N 1/52 (2006.01)
Déposants : MEGADOT SYSTEMS LIMITED [NZ/NZ]; 3/61 Taranaki Street, Wellington (NZ) (Tous Sauf US).
ASHWORTH, William, Frederick [NZ/NZ]; (NZ) (US Seulement)
Inventeurs : ASHWORTH, William, Frederick; (NZ)
Mandataire : CALHOUN, Douglas, C.; A. J. Park & Son, Huddart Parker Building, 6th floor, P.O. Box 949, Wellington 6015 (NZ)
Données relatives à la priorité :
334694 16.03.1999 NZ
334695 16.03.1999 NZ
Titre (EN) IMPROVEMENTS RELATING TO HALFTONE PATTERNS
(FR) MOTIFS DEUX TONS AMELIORES
Abrégé : front page image
(EN)The patterns can be used to reduce one or more undesirable effects such as moire or colour shift in coloured halftone images. Colour screens in the images are based on a combination of non-orthogonal mesh structures with parcels of printing dots which have common shape and size. Preferably the dots grow in mid tones by extending first towards their second, third or fourth nearest neighbours.
(FR)On peut utiliser des motifs pour réduire des effets indésirables, tels que la moirure ou le décalage de couleur, dans des images simili deux tons. Les trames simili des images sont fonction d'une combinaison de structures maillées non-orthogonales avec des parcelles de points d'impression simili de tailles et de formes identiques. De préférence, les points simili augmentent par mi-teintes par extension d'abord vers leurs seconde, troisième ou quatrième zones voisines les plus proches.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)