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1. (WO2000055888) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/055888    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/001984
Date de publication : 21.09.2000 Date de dépôt international : 08.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.09.2000    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : STEAG MICROTECH GMBH [DE/DE]; Carl-Benz-Strasse 10, D-72124 Pliezhausen (DE) (Tous Sauf US).
KROEBER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : KROEBER, Wolfgang; (DE)
Données relatives à la priorité :
199 11 084.0 12.03.1999 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN VON SUBSTRATEN
(EN) DEVICE FOR TREATING SUBSTRATES
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(DE)Bei einer Vorrichtung zum Behandeln von Substraten, insbesondere Halbleiterwafern, mit wenigstens einem eine Öffnung aufweisenden Prozeßbehälter, wobei die Öffnung während der Behandlung durch das Substrat von außen schließbar ist, wird eine einfache und homogene Behandlung einer zu behandelnden Oberfläche des Substrats und eine Verringerung der Gefahr einer Beschädigung zwischen aufeinanderfolgenden Behandlungsschritten dadurch erreicht, daß benachbart zum ersten Prozeßbehälter ein zweiter Prozeßbehälter vorgesehen ist, dessen eine Wand zumindest teilweise die die Öffnung enthaltende Behälterwand des ersten Prozeßbehälters ist und die Öffnung von der Seite des ersten Prozeßbehälters her schließbar ist.
(EN)The invention relates to a device for treating substrates, especially semiconductor wafers, with at least one processing container that is provided with an opening which can be closed from the exterior during the treatment with the substrate. The aim of the invention is to provide a simple and homogeneous treatment of a surface pertaining to a substrate. The aim of the invention is also to reduce the danger of damage between successive treatment steps. To this end, a second processing container is provided adjacent to the first processing container. The wall of said second processing container is at least partially the container wall of the first processing container, whereby said container wall is provided with the opening which can be closed from the side of the first processing container.
(FR)Cette invention concerne un dispositif de traitement de substrats, en particulier de plaquettes de semi-conducteur, qui comprend un récipient de traitement présentant au moins une ouverture pouvant, durant le traitement, être fermée de l'extérieur par le substrat. Avec ledit dispositif, on réalise un traitement simple et homogène d'une surface à traiter du substrat et on obtient une réduction du danger d'endommagement entre des phases successives de traitement, grâce à la présence d'un second récipient de traitement au voisinage du premier récipient de traitement, l'une des parois dudit second récipient étant au moins partiellement la paroi du premier récipient comprenant l'ouverture et l'ouverture pouvant être fermée du côté du premier récipient de traitement.
États désignés : JP, KR, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)