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1. (WO2000055689) PLAQUES POUR PHOTOMASQUES DE GRAVURE PAR PROJECTION, PREFORMES ET PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/055689    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/003588
Date de publication : 21.09.2000 Date de dépôt international : 11.02.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.07.2000    
CIB :
C03B 19/14 (2006.01), C03B 20/00 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 4/00 (2006.01), G03F 1/00 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza, Corning, NY 14831 (US) (Tous Sauf US).
BERKEY, George, E. [US/US]; (US) (US Seulement).
MOORE, Lisa, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
YU, Charles, C. [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BERKEY, George, E.; (US).
MOORE, Lisa, A.; (US).
YU, Charles, C.; (US)
Mandataire : MURPHY, Edward, F.; Patent Dept., SP TI 3-1, Corning Incorporated, Corning, NY 14831 (US)
Données relatives à la priorité :
60/124,471 15.03.1999 US
09/397,577 16.09.1999 US
Titre (EN) PROJECTION LITHOGRAPHY PHOTOMASK BLANKS, PREFORMS AND METHOD OF MAKING
(FR) PLAQUES POUR PHOTOMASQUES DE GRAVURE PAR PROJECTION, PREFORMES ET PROCEDE DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN)The invention includes methods of making lithography photomask blanks. The invention also includes lithography photomask blanks and preforms for producing lithography photomask. The method of making a lithography photomask blank includes providing a soot deposition surface, producing SiO¿2? soot particles and projecting the SiO¿2? soot particles toward the soot deposition surface. The method includes successively depositing layers of the SiO¿2? soot particle on the deposition surface to form a coherent SiO¿2? porous glass preform body comprised of successive layers of the SiO¿2? soot particles and dehydrating the coherent SiO¿2? glass preform body to remove OH from the preform body. The SiO¿2? is exposed to and reacted with a fluorine containing compound and consolidated into a nonporous silicon oxyfluoride glass body with parallel layers of striae. The method further includes forming the consolidated silicon oxyfluoride glass body into a photomask blank having a planar surface with the orientation of the striae layer parallel to the photomask blank planar surface.
(FR)L'invention concerne des procédés de production de plaques de photomasques de gravure. L'invention concerne également des plaques de photomasques de gravure ainsi que des préformes permettant la production d'un photomasque de gravure. Le procédé de production d'une plaque de photomasque de gravure consiste à utiliser une surface de dépôt de suie, à produire des particules de suie SiO¿2? et à projeter les particules de suie SiO¿2? vers la surface de dépôt de suie. Le procédé consiste à déposer successivement des couches de particules de suie SiO¿2? sur la surface de dépôt pour former un corps de préforme en verre poreux SiO¿2? cohérent composé de couches successives des particules de suie SiO¿2? et à déshydrater le corps de la préforme en verre SiO¿2? pour extraire OH du corps de préforme. Le SiO¿2? est exposé à et mis à réagir avec un composé contenant du fluor et il est consolidé en un corps de verre à oxyfluorure de silicium non poreux présentant des couches parallèles de stries. Le procédé consiste ensuite à transformer le corps de verre à oxyfluorure de silicium consolidé en une plaque pour photomasque présentant une surface plane avec l'orientation de la couche de stries parallèle à la surface plane de la plaque pour photomasque.
États désignés : JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)