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1. (WO2000055383) MATERIAU POUR MASQUE PERFORE, SON PROCEDE DE PRODUCTION, MASQUE PERFORE ET TUBE RECEPTEUR D'IMAGES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/055383    N° de la demande internationale :    PCT/JP2000/001402
Date de publication : 21.09.2000 Date de dépôt international : 08.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.10.2000    
CIB :
C21D 3/04 (2006.01), C21D 8/02 (2006.01), C22C 38/00 (2006.01), C22C 38/04 (2006.01), C22C 38/06 (2006.01), H01J 29/07 (2006.01)
Déposants : TOYO KOHAN CO., LTD. [JP/JP]; 2-12, Yonbancho, Chiyoda-ku, Tokyo 102-8447 (JP) (Tous Sauf US).
SATO, Taizo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UEDA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOKI, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SATO, Taizo; (JP).
UEDA, Toshiyuki; (JP).
AOKI, Shinichi; (JP)
Mandataire : OHTA, Akio; Ohta Patent Office, New State Manor Bldg. 356, 23-1, Yoyogi 2-chome, Shibuya-ku, Tokyo 151-0053 (JP)
Données relatives à la priorité :
11/66542 12.03.1999 JP
Titre (EN) MATERIAL FOR SHADOW MASK, METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, SHADOW MASK AND IMAGE RECEIVING TUBE
(FR) MATERIAU POUR MASQUE PERFORE, SON PROCEDE DE PRODUCTION, MASQUE PERFORE ET TUBE RECEPTEUR D'IMAGES
Abrégé : front page image
(EN)A material for shadow mask having the following composition of components: C $m(F) 0.0008 wt.%, Si $m(F) 0.03 wt.%, Mn: 0.1 to 0.5 wt.%, P $m(F) 0.02 wt.%, S $m(F) 0.02 w.%, Al: 0.01 to 0.07 wt.%, N $m(F) 0.0030 wt.%, B: an amount satisfying the formula: 5 ppm $m(F) B-11/14 x N $m(F) 30 ppm, balance: Fe and inevitable impurities; a method for producing the material; a shadow mask using the material (cold rolled steel sheet); and an image receiving tube equipped with the shadow mask. The material has excellent etching characteristics, which are uniform within the same coil, and excellent press formability.
(FR)L'invention porte sur un matériau pour masque perforé présentant la composition suivante: en % du poids: C $m(F) 0,0008, Si $m(F) 0,03, Mn: 0,1 à 0,5, P $m(F) 0,02, S $m(F).0,02, Al: 0,01 à 0,07, N: $m(F) 0,0030, et B: en une quantité satisfaisant à la formule: 5 ppm $m(F) B-11/14xN $m(F) 30 ppm, le reliquat étant du Fe et les inévitables impuretés. L'invention porte également sur un procédé de préparation dudit matériau, sur un masque perforé utilisant ledit matériau (tôle d'acier laminée à froid), et sur un tube récepteur d'images équipé dudit masque perforé. Ledit matériau présente d'excellentes caractéristiques pour l'attaque acide (uniformes pour un même rouleau), et pour le formage à la presse.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)