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1. (WO2000054108) REDUCTION DES EFFETS D'ERREURS DE GROSSISSEMENT ET D'ERREURS DE ROTATION DU RETICULE SUR LES ERREURS DE SUPERPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/054108    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/003679
Date de publication : 14.09.2000 Date de dépôt international : 11.02.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.10.2000    
CIB :
G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; Mail Stop 68, One AMD Place, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US)
Inventeurs : TEMPLETON, Michael, K.; (US).
RANGARAJAN, Bharath; (US).
EARLY, Kathleen, R.; (US).
MANCHESTER, Terry; (US)
Mandataire : RODDY, Richard, J.; Advanced Micro Devices, Inc., One AMD Place, Mail Stop 68, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US).
PICKER, Madeline, M.; BROOKES BATCHELLOR, 102-108 Clerkenwell Road, London EC1M 5SA (GB)
Données relatives à la priorité :
09/266,361 11.03.1999 US
Titre (EN) REDUCTION OF THE EFFECTS OF MAGNIFICATION ERRORS AND RETICLE ROTATION ERRORS ON OVERLAY ERRORS
(FR) REDUCTION DES EFFETS D'ERREURS DE GROSSISSEMENT ET D'ERREURS DE ROTATION DU RETICULE SUR LES ERREURS DE SUPERPOSITION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to wafer alignment. A reticle (50) is employed which includes, a design (54) and first and second alignment marks (60, 62). The second alignment mark is symmetric to the first alignment mark such that a reticle center point (70) is a midpoint of the first and second alignment marks. The first alignment mark is printed on a surface layer of the wafer. The second alignment mark is printed on the surface layer at an offset from the first alignment mark. A virtual alignment mark is determined, the virtual alignment mark being a midpoint of the printed first and second alignment marks. The virtual alignment mark is employed to facilitate aligning the wafer. The symmetric relationship between the first and second alignment mark results in the negation of print errors of the marks due to reticle rotation and/or lens magnification with respect to the virtual alignment mark. The employment of the virtual alignment mark substantially facilitates mitigation of overlay error.
(FR)La présente invention concerne l'alignement de plaquettes. Un réticule (50) est employé lequel comprend un dessin (54) ainsi que des première et seconde marques d'alignement (60, 62). La seconde marque d'alignement est symétrique à la première marque d'alignement de manière qu'un point central (70) du réticule soit un point médian des première et seconde marques d'alignement. La première marque d'alignement est imprimée sur une couche de surface de la plaquette. La seconde marque d'alignement est imprimée sur la couche de surface avec un décalage par rapport à la première marque d'alignement. Une marque d'alignement virtuelle est déterminée, la marque d'alignement virtuelle étant un point médian des première et seconde marques d'alignement imprimées. La marque d'alignement virtuelle est utilisée pour faciliter l'alignement de la plaquette. La relation symétrique entre la première et la seconde marque d'alignement permet d'éliminer les erreurs d'impression des marques dues à la rotation du réticule et/ou au grossissement de la lentille par rapport à la marque d'alignement virtuelle. L'utilisation de la marque d'alignement virtuelle dans l'alignement de plaquettes facilite sensiblement l'atténuation des erreurs de superposition.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)