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1. (WO2000054090) REFLECTEUR OPTIQUE AMELIORE POUR MIROIRS MICRO-USINES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/054090    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/005995
Date de publication : 14.09.2000 Date de dépôt international : 08.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.09.2000    
CIB :
G02B 26/08 (2006.01), G02B 5/08 (2006.01), G02B 6/35 (2006.01), G02B 6/42 (2006.01), G11B 11/105 (2006.01), G11B 7/085 (2006.01), G11B 7/135 (2012.01), H02N 1/00 (2006.01), G11B 7/12 (2012.01)
Déposants : SEAGATE TECHNOLOGY, LLC [US/US]; 920 Disc Drive, Scotts Valley, CA 95067-0360 (US) (Tous Sauf US).
DRAKE, Joseph, D. [US/US]; (US) (US Seulement).
JERMAN, John, H. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DRAKE, Joseph, D.; (US).
JERMAN, John, H.; (US)
Mandataire : DEMPSTER, Shawn, B.; Seagate Technology, Inc., Intellectual Property Dept.-SHK2LG, 1280 Disc Drive, Shakopee, MN 55379-1863 (US)
Données relatives à la priorité :
60/123,514 08.03.1999 US
09/491,427 26.01.2000 US
Titre (EN) IMPROVED OPTICAL REFLECTOR FOR MICRO-MACHINED MIRRORS
(FR) REFLECTEUR OPTIQUE AMELIORE POUR MIROIRS MICRO-USINES
Abrégé : front page image
(EN)A micromachined reflector comprising a planar substrate (146) and a reflective layer (147) secured to the planar substrate. The reflective layer has a stress. An additional layer (148) of material is secured to the reflective layer. The additional layer has a stress substantially opposing the stress of the reflective layer. The stress of the additional layer substantially offsets the stress of the reflective layer to enhance the planarity of the micromachined reflector.
(FR)L'invention concerne un réflecteur micro-usiné comprenant un substrat plat (146) et une couche réfléchissante (147) fixée audit substrat. Ladite couche présente une tension. Une couche supplémentaire (148) de matériau est fixée à la couche réfléchissante. La couche supplémentaire présente une tension sensiblement opposée à celle de la couche réfléchissante. La tension de la couche supplémentaire compense sensiblement celle de la couche réfléchissante pour renforcer la planéité du réflecteur micro-usiné.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)