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1. (WO2000053642) (CO)POLYMERISATION CONTROLEE PAR DES SYSTEMES COMPLEXES DE METAL/N-HETEROCYCLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/053642    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/001782
Date de publication : 14.09.2000 Date de dépôt international : 02.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    29.09.2000    
CIB :
C08F 2/38 (2006.01)
Déposants : SCHUBERT, Ulrich, S. [DE/DE]; (DE).
HOCHWIMMER, Georg [DE/DE]; (DE).
SPINDLER, Christian [DE/DE]; (DE).
NUYKEN, Oskar [DE/DE]; (DE)
Inventeurs : SCHUBERT, Ulrich, S.; (DE).
HOCHWIMMER, Georg; (DE).
SPINDLER, Christian; (DE).
NUYKEN, Oskar; (DE)
Mandataire : KLIMIUK-JAPADITA, Meike; Bayer Aktiengesellschaft, Konzernbereich RP, Patente und Lizenzen, D-51368 Leverkusen (DE)
Données relatives à la priorité :
199 09 624.4 05.03.1999 DE
Titre (DE) KONTROLLIERTE (CO)POLYMERISATION MIT N-HETEROCYCLEN-METALL-KOMPLEX-SYSTEMEN
(EN) CONTROLLED (CO)POLYMERISATION WITH N-HETEROCYCLES METAL COMPLEX SYSTEMS
(FR) (CO)POLYMERISATION CONTROLEE PAR DES SYSTEMES COMPLEXES DE METAL/N-HETEROCYCLES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur kontrollierten (Co)Polymerisation von radikalisch polymerisierbaren Monomeren, wie z.B. Styrol, Methacrylat bzw. Acrylat und deren Derivaten unter Verwendung eines Initiator/Katalysator-Systems auf Basis einer Verbindung mit mindestens einer Abgangsgruppe, N-Heterocyclen-Metall-Komplexen der Formel [ML¿n?]?m+¿(A), (mit M = Cu(II), Cu(I), Fe(II) etc. und beliebigen Gegenionen, (A)) und wahlweise von Lewis-Säuren und/oder Lösungsmittel. Das Verfahren zeichnet sich insbesondere durch den Erhalt von farblosen Polymeren mit geringen Rest-Metall-Ionen-Konzentrationen und der guten Einstellbarkeit der Molmassen verbunden mit relativ niedrigen Polydispersitäten aus.
(EN)The invention relates to a method for the controlled (co)polymerisation of monomers such as styrene, methacrylate or acrylate and the derivatives thereof. Said monomers can be subjected to free-radical polymerisation. An initiator/catalyst system on the basis of a compound containing at least one nucleofuge, N-heterocycles metal complexes of the formula [ML¿n?]?m+¿(A), (with M = Cu(II), Cu(I), Fe(II) etc. and any counterions, (A)) and optionally Lewis acids and/or solvants is used. The method is particularly characterised by maintaining colourless polymers with low residual metal ion concentrations and by good adjustability of the molar weights combined with a relatively low polydispersity.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de procéder à une (co)polymérisation contrôlée de monomères radicalement polymérisables, par exemple du styrène, du méthacrylate ou de l'acrylate et leurs dérivés, à l'aide d'un système initiateur/catalyseur à base d'un composé ayant au moins un groupe de départ, des complexes de métal/N-hétérocycles de la formule [ML¿n?]?m+¿(A), (où M = Cu(II), Cu(I), Fe(II) etc. et des ions antagonistes quelconques, (A)) et éventuellement d'acides de Lewis et/ou de solvants. Le procédé se distingue notamment par l'obtention de polymères incolores ayant de faibles concentrations d'ions métalliques résiduels et la bonne aptitude de réglage des masses molaires liée à des polydispersités relativement faibles.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)