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1. (WO2000053309) TECHNIQUE DE SEPARATION PHOTOLYTIQUE DES GROUPES PROTECTEURS DE DERIVES NUCLEOSIDIQUES IMMOBILISES, NOTAMMENT POUR LA FABRICATION DES PUCES A ADN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/053309    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/002197
Date de publication : 14.09.2000 Date de dépôt international : 13.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.09.2000    
CIB :
B01J 19/00 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01), C07H 21/00 (2006.01)
Déposants : NIGU CHEMIE GMBH [DE/DE]; Beuthener Strasse 2, D-84478 Waldkraiburg (DE) (Tous Sauf US).
STENGELE, Klaus-Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GIEGRICH, Heinrich [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : STENGELE, Klaus-Peter; (DE).
GIEGRICH, Heinrich; (DE)
Mandataire : HOFFMANN . EITLE; Arabellastrasse 4, D-81925 München (DE)
Données relatives à la priorité :
199 10 808.0 11.03.1999 DE
199 53 289.3 05.11.1999 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR PHOTOLYTISCHEN ABSPALTUNG VON SCHUTZGRUPPEN VON IMMOBILISIERTEN NUCLEOSID-DERIVATEN, INSBESONDERE IN DER DNA-CHIP-HERSTELLUNG
(EN) METHOD FOR PHOTOLYTICALLY DEPROTECTING IMMOBILIZED NUCLEOSIDE DERIVATIVES, ESPECIALLY IN THE PRODUCTION OF DNA CHIPS
(FR) TECHNIQUE DE SEPARATION PHOTOLYTIQUE DES GROUPES PROTECTEURS DE DERIVES NUCLEOSIDIQUES IMMOBILISES, NOTAMMENT POUR LA FABRICATION DES PUCES A ADN
Abrégé : front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur gezielten photolytischen Abspaltung von Schutzgruppen von auf einem Trägermaterial immobilisierten Nucleosid-Derivaten beschrieben, insbesondere zur Verwendung in der DNA-Chip-Herstellung, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass zuerst eine Schicht aus einem Gel oder einer viskosen Flüssigkeit auf den auf dem Trägermaterial immobilisierten Nucleosid-Derivaten aufgebracht wird, wobei das Gel oder die viskose Flüssigkeit eine oder mehrere Polymerverbindungen und wenigstens einen Vertreter aus Wasser, Wasser/C¿1?-C¿4?-Alkohol-Gemischen und polaren aprotischen Lösemitteln umfasst, und dann die Nucleosid-Derivate zur photolytischen Abspaltung der Schutzgruppen belichtet werden. Auf diese Weise wird eine schnelle, saubere und vollständige Abspaltung der photolabilen Schutzgruppen von den Nucleosid-Derivaten begünstigt, was wiederum die geforderte Reinheit der synthetisierten Nucleotid- bzw. Oligonucleotid-Sequenzen zur Folge hat.
(EN)The invention relates to a method for the specific photolytic deprotection of nucleoside derivatives that are immobilized on a substrate, especially for use in the production of DNA chips. Said method is characterized in that a gel or viscous liquid layer is applied on the nucleoside derivatives that are immobilized on a substrate. Said gel or viscous liquid contains one or more polymer compounds and at least one representative from the group comprising water, water/C¿1?-C¿4? alcohol mixtures and polar aprotic solvents. For initiating the deprotection, the nucleoside derivatives are irradiated. This method favors a rapid, clean and complete removal of the photolabile protective groups from the nucleoside derivatives, which results in the required purity of the synthesized nucleotide or oligonucleotide sequences.
(FR)L'invention concerne une technique qui permet de séparer de manière ciblée les groupes protecteurs de dérivés nucléosidiques immobilisés sur un matériau support, notamment pour la fabrication des puces à ADN. Selon ladite technique, on applique sur les dérivés nucléosidiques immobilisés sur le matériau support une couche de gel ou d'un fluide visqueux contenant un ou plusieurs composés polymères et au moins de l'eau, un mélange eau/alcool C¿1?-C¿4? et/ou un solvant aprotique polaire; puis on expose lesdits dérivés à la lumière de façon à séparer photolytiquement les groupes protecteurs. La technique permet de séparer les groupes protecteurs des dérivés nucléosidiques d'une manière rapide, propre et totale, et ainsi d'obtenir la pureté nécessaire des séquences nucléotidiques ou oligonucléotidiques synthétisées.
États désignés : AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)